[实用新型]用于溅射设备的磁体系统以及溅射设备有效

专利信息
申请号: 202222868210.5 申请日: 2022-10-27
公开(公告)号: CN218939591U 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: K·施耐德;G·格罗斯;T·桑德;R·豪斯瓦尔德 申请(专利权)人: 冯·阿登纳资产股份有限公司
主分类号: H01J37/34 分类号: H01J37/34;C23C14/35
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 王珺;李文颖
地址: 德国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 溅射 设备 磁体 系统 以及
【权利要求书】:

1.一种用于溅射设备(300)的磁体系统(100),其特征在于,所述磁体系统(100)包括:

壳体(406g),所述壳体具有壳体内部空间(406h);

磁体载体(102),所述磁体载体设置在所述壳体内部空间(406h)中并且借助于所述壳体(406g)支撑;

除湿设备,所述除湿设备邻接于所述壳体内部空间(406h)或设置在所述壳体内部空间中,用于对所述壳体内部空间(406h)进行除湿。

2.根据权利要求1所述的磁体系统(100),其特征在于,所述磁体载体(102)设置在所述壳体内部空间(406h)中并且借助于所述壳体(406g)以相对于所述壳体位置固定的方式支撑。

3.根据权利要求1所述的磁体系统(100),其特征在于,所述除湿设备具有冷却阱(408)。

4.根据权利要求3所述的磁体系统(100),其特征在于,还包括:

流体接口,该流体接口与所述冷却阱(408)耦联,用于对所述冷却阱(408)供应冷却流体。

5.根据权利要求1所述的磁体系统(100),其特征在于,所述除湿设备具有吸湿材料。

6.根据权利要求1所述的磁体系统(100),其特征在于,所述除湿设备具有两个流体接口,该两个流体接口借助于所述壳体内部空间(406h)以彼此引导流体的方式连接。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的磁体系统(100),其特征在于,还包括:

多个磁体,所述磁体借助于磁体支架保持在所述壳体内部空间(406h)中。

8.一种用于溅射设备(300)的磁体系统(100),其特征在于,所述磁体系统(100)包括:

壳体(406g),所述壳体具有壳体内部空间(406h);

磁体载体(102),所述磁体载体设置在所述壳体内部空间(406h)中并且借助于所述壳体(406g)支撑;

贫水流体,所述贫水流体设置在所述壳体内部空间(406h)中并且所述磁体载体(102)至少部分地嵌入所述贫水流体中。

9.根据权利要求8所述的磁体系统(100),其特征在于,所述磁体载体(102)设置在所述壳体内部空间(406h)中并且借助于所述壳体(406g)以相对于所述壳体位置固定的方式支撑。

10.根据权利要求8或9所述的磁体系统(100),其特征在于,还包括:

多个磁体,所述磁体借助于磁体支架保持在所述壳体内部空间(406h)中。

11.一种用于溅射设备(300)的磁体系统(100),其特征在于,所述磁体系统(100)包括:

壳体(406g),所述壳体具有壳体内部空间(406h);

磁体载体(102),所述磁体载体设置在所述壳体内部空间(406h)中并且借助于所述壳体(406g)支撑;

电路,所述电路设置在所述壳体内部空间(406h)中并且以水密封方式封装。

12.根据权利要求11所述的磁体系统(100),其特征在于,所述磁体载体(102)设置在所述壳体内部空间(406h)中并且借助于所述壳体(406g)以相对于所述壳体位置固定的方式支撑。

13.根据权利要求11或12所述的磁体系统(100),其特征在于,还包括:

多个磁体,所述磁体借助于磁体支架保持在所述壳体内部空间(406h)中。

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