[实用新型]牙冠有效

专利信息
申请号: 202222958473.5 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN218960976U 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 常小龙;辛晨;徐志伟;卢凌霄;刘翔 申请(专利权)人: 上海微创子牙医疗科技有限公司
主分类号: A61C8/00 分类号: A61C8/00
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 汪春艳
地址: 201203 上海市浦东新区中国(上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 牙冠
【说明书】:

本实用新型提供一种牙冠,包括:饰瓷和基底冠;所述饰瓷覆盖于所述基底冠的外表面,且所述饰瓷壁厚均匀;所述基底冠具有与种植体配合的凹槽。可见,覆盖于所述基底冠外表面的所述饰瓷具有均匀的壁厚,以能够避免咬合时应力集中,从而在咬合时能够均衡所述牙冠受到的咬合力,降低所述牙冠的崩瓷发生率,提高种植体的抗压力。

本申请是申请日为2021年10月29日,申请号为202122638506.3,实用新型名称为“拟压根种植体系统”的专利申请的分案申请。

技术领域

本实用新型涉及种植牙技术领域,特别涉及一种牙冠。

背景技术

临床上,治疗牙列缺失或缺损的主要方式之一就是使用人工牙种植体。目前,传统的种植体一般为单牙根,且沿牙根的长度方向上为具有螺纹的圆柱或圆锥形几何形状,属于一种回转体结构,依靠螺纹旋入牙槽骨获得初期稳定性。然而,牙齿咀嚼是一个很复杂的动力学过程,不但需要承受垂直向的咬合力,还要承担侧向的咀嚼力。在整个过程中,磨牙区承担着比较复杂且较大的咬合力。其中,种植体的牙冠是咬合力的直接受力部件,容易出现应力集中,造成崩瓷的问题,影响种植体的使用效果。

因此,需要一种新的牙冠,以解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种牙冠,以解决如何降低崩瓷发生率以及如何提高种植体的抗压力中的至少一个问题。

为解决上述技术问题,本实用新型提一种牙冠,所述牙冠包括:饰瓷和基底冠;所述饰瓷覆盖于所述基底冠的外表面,且所述饰瓷壁厚均匀;所述基底冠具有与种植体配合的凹槽。

可选的,在所述的牙冠中,所述基底冠的外轮廓与所述饰瓷的内壁轮廓相适配;和/或,所述凹槽的内壁轮廓与所述种植体上基桩的外轮廓相适配。

可选的,在所述的牙冠中,所述牙冠的中心轴线与所述基桩的中心轴线重合。

可选的,在所述的牙冠中,所述牙冠还包括平台;所述平台环绕所述凹槽的外周,并向远离所述凹槽的一侧延伸,以支撑所述饰瓷。

可选的,在所述的牙冠中,所述平台与所述基底冠为一体结构。

可选的,在所述的牙冠中,所述平台贴附于所述基底冠上,且与所述饰瓷连接。

可选的,在所述的牙冠中,所述平台的高度为2毫米,宽度为0.7毫米。

可选的,在所述的牙冠中,所述饰瓷的材质为长石质玻璃陶瓷以及二硅酸锂玻璃陶瓷中的一种。

可选的,在所述的牙冠中,所述基底冠的材质为氧化锆。

可选的,在所述的牙冠中,所述饰瓷与所述基底冠的连接方式包括:粘连;或采用烧结将所述饰瓷附着于所述基底冠上。

综上所述,本实用新型提供一种牙冠,包括:饰瓷和基底冠;所述饰瓷覆盖于所述基底冠的外表面,且所述饰瓷壁厚均匀;所述基底冠具有与种植体配合的凹槽。可见,覆盖于所述基底冠外表面的所述饰瓷具有均匀的壁厚,以能够避免咬合时应力集中,从而在咬合时能够均衡所述牙冠受到的咬合力,降低所述牙冠的崩瓷发生率,提高种植体的抗压力。

附图说明

图1是本实用新型实施例中的拟牙根种植体系统的结构示意图;

图2是本实用新型实施例中的拟牙根种植体本体的结构示意图;

图3是本实用新型实施例中的牙冠的结构示意图;

图4是本实用新型实施例中的一种植骨仓的结构示意图;

图5是本实用新型实施例中的一种植骨仓的结构示意图;

图6~8是本实用新型实施例中的一种固定件的设置示意图;

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