[实用新型]一种用于制备两亲性薄膜的流体池装置及基因测序仪

权利要求书

1.一种用于制备两亲性薄膜的流体池装置，包括流体池本体，其特征在于，所述流体池本体内设置有至少一个流体流道；所述流体池本体包括允许外部的流体流入和/或流出流体流道的一个或多个流动通路，所述流体流道包括进液区与反应池，所述进液区用于向反应池输入反应液体，所述反应池底部通过电极连接测序芯片，所述电极的上方设置有质子交换膜；所述反应池的宽度为3～5mm，所述反应池的深度为1～1.5mm，所述进液区的宽度为1～2mm。

2.根据权利要求1所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述反应池与进液区之间设置有连接通道，所述连接通道的宽度自进液区向反应池逐渐变大；

所述反应池远离进液区的一端设置有出液端，所述出液端的高度高于所述反应池。

3.根据权利要求1所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述反应池相对的两侧呈斜坡结构，所述斜坡结构的倾斜角度为30°～60°。

4.根据权利要求2所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述流体池本体包括至少两个流体入口和至少一个流体出口；所述流体入口包括极性溶剂入口和非极性溶剂入口，所述极性溶剂入口、非极性溶剂入口位于进液区上方，所述流体出口位于出液端上方。

5.根据权利要求4所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述流体流道上还设置有极性溶液存储区，所述极性溶液存储区位于极性溶液入口的下方。

6.根据权利要求5所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述极性溶液存储区与进液区之间设置有液体通道，所述极性溶液存储区与液体通道对应之处设置有极性溶液流出的开口，所述进液区与液体通道对应之处设置有极性溶液流出的开口。

7.根据权利要求4所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述流体出口位于出液端上方。

8.根据权利要求7所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述流体出口与出液端顶部之间的距离为0.3～0.5mm。

9.根据权利要求1-3任一项所述的用于制备两亲性薄膜的流体池装置，其特征在于，所述流体池本体的底部还设置有基因测序芯片组件，所述基因测序芯片组件包括固定组件和测序芯片，所述电极与测序芯片电连接，所述固定组件包括固定板和设置在固定板上的密封件，所述密封件用于包绕所述反应池的下部并形成密封的反应腔室。

10.一种具有流体池装置的基因测序仪，其包括权利要求1-9任一项所述的流体池装置，其特征在于：所述流体池装置的反应池底部设置有两亲性薄膜，所述两亲性薄膜上设置有若干纳米孔。