[实用新型]一种离子注入装置

权利要求书

1.一种离子注入装置，其包括有相连接的离子束发生装置和工艺腔模块，离子束发生装置产生截面呈条形的带状离子束并输出至工艺腔模块内，其特征在于，离子束的条形截面的长度方向与水平面之间的锐夹角小于45度；工艺腔模块内设置有晶圆扫描部件，晶圆扫描部件一端与工艺腔模块相连接，另一端具有用于固持晶圆的晶圆固持部；晶圆扫描部件上具有用于控制晶圆固持部翻转的翻转机构和用于控制晶圆固持部沿垂直离子束长度方向移动的移动机构。

2.如权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，离子束的条形截面的长度方向与水平面相平行。

3.如权利要求2所述的离子注入装置，其特征在于，晶圆直接传送至离子束下方的晶圆扫描部件的晶圆固持部上，接着直接将晶圆原地竖立起来，然后就可以向上移动、进行纵向的反复扫描注入。

4.如权利要求3所述的离子注入装置，其特征在于，工艺腔模块上还依次连接有传送腔模块、真空锁模块和前端模块；传送腔模块内设置有用于移动传送晶圆并在真空锁模块和晶圆扫描部件处取放晶圆的晶圆传送部件。

5.如权利要求4所述的离子注入装置，其特征在于，晶圆传送部件在靠近晶圆扫描部件处的移动范围位于离子束下方且与离子束之间具有间隙。

6.如权利要求3-5中任意一项所述的离子注入装置，其特征在于，离子束发生装置包括依次相连通地连接的离子源模块、质量分析磁铁模块、磁透镜模块、分析狭缝模块和电透镜模块，电透镜模块的输出端与工艺腔模块的侧壁贯通地相连接；工艺腔模块与离子束发生装置相对的一侧设置有法拉第杯。

7.如权利要求6所述的离子注入装置，其特征在于，离子源模块输出离子束的方向朝向斜下方；质量分析磁铁模块中离子束的通路呈下凹的弧线形；磁透镜模块、分析狭缝模块和电透镜模块中离子束的通路均朝向斜上方。

8.如权利要求6所述的离子注入装置，其特征在于，晶圆扫描部件横向连接在工艺腔模块内侧壁上，晶圆扫描部件的主轴垂直于离子束行进方向。

9.如权利要求6所述的离子注入装置，其特征在于，晶圆扫描部件的主轴的自由端与晶圆固持部转动连接，从而进行水平和竖起状态之间的翻转，晶圆扫描部件的主轴与工艺腔模块内侧壁相连的一端采用多轴机械手形式。

10.如权利要求6所述的离子注入装置，其特征在于，离子源模块包括相装配连接的离子源、绝缘套管、离子源腔体、引出电极调整机构、离子源分子泵、闸板阀以及离子源机架；离子源产生带状离子束，该离子束在水平和垂直方向上发散；绝缘套管用于提供保护和隔离，离子源分子泵使离子源腔体及离子源中形成所需的真空环境，引出电极调整机构用于使离子源产生的离子束定向移动，闸板阀用于控制离子源模块与后方模块之间的连通或隔离。