[实用新型]一种高层纪念塔有效

专利信息
申请号: 202223049521.5 申请日: 2022-11-16
公开(公告)号: CN218541753U 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 陈丽 申请(专利权)人: 陈丽
主分类号: E04H13/00 分类号: E04H13/00;A01G9/02;A01G25/00
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 胡美强
地址: 201208 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 高层 纪念塔
【权利要求书】:

1.一种高层纪念塔,其特征在于,其包括斜坡式结构体、土壤、若干个墓位和若干个支撑立柱,若干个所述墓位由上至下呈退台式布设于所述斜坡式结构体的外表面并形成多层的台阶式墓位,多层所述台阶式墓位组成纪念塔,若干个所述支撑立柱用于支撑上下相邻两层所述台阶式墓位,所述土壤填充于所述斜坡式结构体的外表面与若干个所述墓位之间,所述墓位包括墓穴和树穴,所述墓穴位于所述树穴的顶部,所述树穴的底部连接于所述土壤,所述斜坡式结构体的顶部具有雨水收集部,所述雨水收集部内的水用于浇灌所述土壤和所述树穴。

2.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述斜坡式结构体内具有内部空间,所述墓位还包括有背景墙和灵窗,所述背景墙开设有通风通道,所述通风通道自所述背景墙的外侧面向内贯穿所述土壤和所述斜坡式结构体并与所述内部空间相连通,所述灵窗连接于所述背景墙并嵌入至所述通风通道内。

3.如权利要求2所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述灵窗为花格窗。

4.如权利要求2所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述一种高层纪念塔还包括中央墓坛,所述中央墓坛设置于所述内部空间内;

和/或,所述一种高层纪念塔还包括雕像塔,所述雕像塔设置于所述内部空间内。

5.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述墓位包括追思台和行走台,所述追思台和所述行走台均位于所述树穴中背向所述斜坡式结构体的一端,且所述追思台的两端分别连接于所述行走台和所述树穴,所述支撑立柱的底部连接于所述墓位的所述追思台,所述支撑立柱的顶部连接于上方所述墓位的所述行走台,每一层所述墓位通过多个所述行走台形成有公共通道。

6.如权利要求5所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述墓位还包括安全护栏,所述安全护栏连接于所述行走台中背向所述追思台的一端。

7.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述墓位还包括墓碑,所述墓碑连接于所述墓穴上。

8.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述一种高层纪念塔还包括若干个地宫,若干个所述地宫沿高度方向多层布设于所述斜坡式结构体的下方,每一个所述地宫具有多个地宫墓位。

9.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述纪念塔的平面造型为方形、圆形或者多边形;

和/或,所述纪念塔设有多个垂直交通核。

10.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述树穴与所述土壤之间设有篦网。

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