[实用新型]清洗剂供给机构以及全自动刷板清洁设备

说明书

本实用新型涉及一种清洗剂供给机构，包括用于存储清洗剂的箱体，所述箱体通过虹吸管道将清洗剂送至外部机构；所述箱体的顶端开口处盖设有箱盖，所述箱盖上安装有用于将所述虹吸管道压沉在所述箱体中的配重块，所述配重块具有供所述管道穿出的开孔。还提供一种全自动刷板清洁设备，包括上述的清洗剂供给机构。本实用新型箱体可以存放清洗剂，通过管道将清洗剂送至毛轮清洁机构，管道采用虹吸的方式将清洗剂供给至毛轮清洁机构，可以尽可能地减少清洗剂的用量。管道较轻，采用配重块可以使管道伸入到箱体内而不会漂浮起来，方便虹吸效应的形成。配重块具有开孔，管道可以从该开孔进入箱体内，但确保该开孔可以锁紧管道，避免管道自由移动。

技术领域

本实用新型涉及摄像头模组技术领域，具体为一种清洗剂供给机构以及全自动刷板清洁设备。

背景技术

摄像头模组领域生产过程中，面临最大的问题是脏污脏点的控制，又称Particle管控。

特别是CSP芯片经过SMT工艺贴装后，芯片表面脏污脏点不良达到80％。常规做法是超声波、等离子清洗后搬运至半自动刷板机由人工上料刷洗后由人工放置在物料存储水箱内短暂存储，然后再进一步甩洗，由于部分人员漏失以及物料放置存储水箱不及时导致不良影响，以及半自动刷板设备对刷洗过程中水雾无法做到密封，严重影响百级无尘车间环境，给企业带来了巨大的不良损失及人力损失，同时也让客户群体对企业出现信心不足，严重情况下甚至造成客户流失。

另外现有的半自动刷板机也没有专门的清洗剂供给机构，制约了全自动刷板的发展。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种清洗剂供给机构以及全自动刷板清洁设备，至少可以解决现有技术中的部分缺陷。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供如下技术方案：一种清洗剂供给机构，包括用于存储清洗剂的箱体，所述箱体通过虹吸管道将清洗剂送至外部机构；所述箱体的顶端开口处盖设有箱盖，所述箱盖上安装有用于将所述虹吸管道压沉在所述箱体中的配重块，所述配重块具有供所述管道穿出的开孔。

进一步，所述配重块螺纹连接在所述箱盖上，螺纹延伸的方向与所述箱体的高度方向一致。

进一步，还包括用于箱体内的清洗剂的加热的加热组件。

进一步，所述加热组件包括设于所述箱盖上的控制端以及设于所述箱体内的加热圈，所述加热圈与所述控制端电连接。

进一步，所述加热圈设在所述箱体的底部。

进一步，还包括用于过滤清洗剂的过滤组件。

进一步，所述过滤组件包括过滤斗，所述过滤斗安装在所述配重块下方并置于所述箱体内；所述虹吸管道包括第一管道和第二管道，所述第一管道在所述箱体外且所述第一管道与所述箱盖的开孔连通，所述第二管道与在所述过滤斗连通且所述第二管道位于所述过滤斗外。

进一步，所述过滤斗包括底部的过滤网，所述第二管道设在所述过滤网上。

进一步，所述箱盖上预留有功能孔。

本实用新型实施例提供另一种技术方案：一种全自动刷板清洁设备，包括上述的清洗剂供给机构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：箱体可以存放清洗剂，通过管道将清洗剂送至毛轮清洁机构，管道采用虹吸的方式将清洗剂供给至毛轮清洁机构，可以尽可能地减少清洗剂的用量。管道较轻，采用配重块可以使管道伸入到箱体内而不会漂浮起来，方便虹吸效应的形成。配重块具有开孔，管道可以从该开孔进入箱体内，但确保该开孔可以锁紧管道，避免管道自由移动。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种全自动刷板清洁设备的流程示意图；

图2a为本实用新型实施例提供的一种全自动刷板清洁设备的自动补料模组的示意图(示出五个料盒)；