[实用新型]半导体制造用化学品供给装置

说明书

本实用新型公开一种半导体制造用化学品供给装置。本实用新型的半导体制造用化学品供给装置包括：多个化学品供给器，用于向处理室供给化学品；装置柜，形成有多个收纳单元，其用于收纳多个上述化学品供给器；以及控制器，配置在上述装置柜的一侧，与多个上述化学品供给器连接以综合控制多个上述化学品供给器的工作。

技术领域

本实用新型涉及一种半导体制造用化学品供给装置，更详细地，涉及在半导体制造工艺中将化学品作为工艺气体供给到处理室的装置。

背景技术

通常，半导体制造工艺通过反复执行薄膜沉积、曝光、蚀刻等工序来制造半导体。经过半导体制造工艺制出的半导体中具有代表性的是晶片。

如上所述的半导体制造工艺在密闭的处理室内进行，在此情况下，需要根据半导体制造工艺的种类向处理室内供给适当的化学品(工艺气体)。

化学品是由用于处理室的工艺的化学药品组成的工艺气体，通过利用氦(He)等惰性载气来供给到处理室。

作为参考，化学品中具有代表性的化学药品有原硅酸四乙酯(TEOS，Tetra EthylOrtho Silicate)、三甲基铝(TMA，Tri Methyl Aluminum)、硼酸三乙酯(TEB，Tri ethylBorate)、硼酸三甲酯(TMB，Tri Methyl Borate)、亚磷酸三甲酯(TMPI，Tri MethylPhosphite)、磷酸三甲酯(TMOP，Tri Methyl Phosphate)、磷酸三乙酯(TEOP，Tri EthylPhosphate)等，可根据半导体制造工艺选择性地使用。

与之相关的现有技术文献有韩国授权专利公报第10-0675276号(发明名称：半导体制造用气体供给装置，公告日期：2007年01月26日)及韩国授权专利公报第10-1010573号(发明名称：半导体制造用化学品供给装置及半导体制造用化学品供给方法，公告日期：2011年01月24日)。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种半导体制造用化学品供给装置，其可以在一个半导体制造用化学品供给装置中通过多个化学品供给器顺畅地向多个处理室供给化学品，并使用一个控制器来综合控制多个化学品供给器的工作。

根据本实用新型一实施例，上述目的通过如下的半导体制造用化学品供给装置来实现，半导体制造用化学品供给装置的特征在于，包括：多个化学品供给器，用于向处理室供给化学品；装置柜，形成有多个收纳单元，其用于收纳多个上述化学品供给器；以及控制器，配置在上述装置柜的一侧，与多个上述化学品供给器连接以综合控制多个上述化学品供给器的工作。

优选地，上述装置柜可以包括：柜体，形成有多个一侧开放的箱型的上述收纳单元；以及主门，分别配置在多个上述收纳单元的一侧以开闭上述收纳单元的内部空间，上述控制器可以包括：门开闭传感器，分别配置在多个上述收纳单元或多个上述主门，用于检测多个上述主门的开闭状态；以及控制部，与多个上述门开闭传感器连接，当多个上述门开闭传感器中的至少一个检测到上述主门的打开状态时，使收纳在上述主门被打开的收纳单元中的上述化学品供给器停止工作。

优选地，上述控制器还可以包括警告部，当多个上述门开闭传感器中的至少一个检测到上述主门的打开状态时，警告上述主门的打开状态，上述警告部设置在上述装置柜，其数量与多个上述收纳单元对应，上述控制部与多个上述警告部连接，以选择性地启动与上述主门被打开的收纳单元对应的警告部。

优选地，上述装置柜还可以包括副门，分别可开闭地配置在形成于多个上述主门的开口部，以在遮蔽上述主门的状态下操作上述化学品供给器的工作。

优选地，上述控制器可以包括：气体泄漏传感器，分别配置在多个上述化学品供给器或多个上述收纳单元中的一个，用于检测从多个上述化学品供给器中泄漏的上述化学品；以及控制部，与多个上述气体泄漏传感器连接，当多个上述气体泄漏传感器中的至少一个检测到上述化学品时，使收纳在检测到上述化学品的至少一个收纳单元的上述化学品供给器停止工作。