[实用新型]等离子金属渗陶工艺用表面涂覆设备有效
申请号: | 202223445754.7 | 申请日: | 2022-12-22 |
公开(公告)号: | CN218932259U | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 朱卫东 | 申请(专利权)人: | 合肥派腾智能设备科技有限公司 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36 |
代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 苏宇 |
地址: | 230000 安徽省合肥市经济技术开*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 金属 陶工 表面 设备 | ||
本实用新型公开了等离子金属渗陶工艺用表面涂覆设备,属于表面涂覆领域,该装置,包括真空箱,所述真空箱顶部固定连接有升降气缸,所述升降气缸输出端贯穿真空箱并连接支撑板,所述支撑板顶部设置有驱动组件,所述驱动组件输出端转动连接有多组转动盘,所述转动盘底部固定连接有两组固定板,两组所述固定板相对的一侧固定连接有多组等距阵列的喷头,通过升降气缸带动支撑板底部两组固定板上的喷头向下移动,两组喷头分别移动到缸套壁的内外两侧,同时喷头出气端与缸套壁相对,然后启动驱动电机带动转轴转动,转轴通过转动盘和固定板带动喷头转动,对缸套的内外壁进行圆周喷射涂覆气体,提高气体在缸套表面分布的均匀性,提高涂覆的质量。
技术领域
本实用新型涉及表面涂覆技术领域,具体涉及等离子金属渗陶工艺用表面涂覆设备。
背景技术
等离子金属渗陶工艺是通过将零件放置到真空箱中,通过在零件表面喷射反应气体,然后通过等离子体放电,使反应气体与零件表面反应进行涂覆。
上述现有技术中的涂覆方式,在真空箱内涂覆时,喷头喷涂的气体在真空箱内的真空状态下,无法有效均匀地在零件内外壁的位置分布,导致等离子体放电时,反应气体在零件表面的反应涂覆不均匀,降低了涂覆的质量。
实用新型内容
为了克服上述的技术问题,本实用新型的目的在于提供等离子金属渗陶工艺用表面涂覆设备,通过升降气缸带动支撑板底部两组固定板上的喷头向下移动,两组喷头分别移动到缸套壁的内外两侧,同时喷头出气端与缸套壁相对,然后启动驱动电机带动转轴转动,转轴通过转动盘和固定板带动喷头转动,对缸套的内外壁进行圆周喷射涂覆气体,提高气体在缸套表面分布的均匀性,提高涂覆的质量。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现:
等离子金属渗陶工艺用表面涂覆设备,包括真空箱,所述真空箱底部设置有电极组件,所述真空箱顶部固定连接有升降气缸,所述升降气缸输出端贯穿真空箱并连接支撑板,所述支撑板顶部设置有驱动组件,所述驱动组件输出端转动连接有多组转动盘,所述转动盘底部固定连接有两组固定板,两组所述固定板相对的一侧固定连接有多组等距阵列的喷头。
作为本实用新型进一步的方案:所述电极组件包括驱动气缸,所述驱动气缸输出端贯穿真空箱并固定连接有放置板,所述放置板顶部固定连接有多组电极杆。
作为本实用新型进一步的方案:所述驱动组件包括多组转轴,多组所述转轴转动连接在支撑板顶部,多组所述转轴底部贯穿支撑板并分别与多组转动盘相连接,所述升降气缸输出端固定连接有驱动电机,所述驱动电机输出端与一组所述转轴相连接,多组所述转轴之间通过传动链传动相连。
作为本实用新型进一步的方案:所述真空箱内部固定连接有涂覆台,所述涂覆台顶部开设有多组贯穿涂覆台的通槽,多组所述通槽分别与多组所述电极杆相对应。
作为本实用新型进一步的方案:所述涂覆台顶部放置有放置台,所述放置台顶部开设有多组贯穿放置台的通孔,多组所述通孔分别与多组通槽相对应。
作为本实用新型进一步的方案:所述放置台顶部固定连接有多组对称设置的限位块,每一组对称设置的限位块分别位于通孔两侧。
本实用新型的有益效果:
本实用新型中,通过升降气缸带动支撑板底部两组固定板上的喷头向下移动,两组喷头分别移动到缸套壁的内外两侧,同时喷头出气端与缸套壁相对,然后启动驱动电机带动转轴转动,转轴通过转动盘和固定板带动喷头转动,对缸套的内外壁进行圆周喷射涂覆气体,提高气体在缸套表面分布的均匀性,提高涂覆的质量。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
图1是本实用新型主视结构示意图一;
图2是本实用新型主视结构示意图二;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥派腾智能设备科技有限公司,未经合肥派腾智能设备科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202223445754.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类