[实用新型]高分子基材反射式光栅盘有效

专利信息
申请号: 202223450202.5 申请日: 2022-12-22
公开(公告)号: CN219496711U 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 王德麾;姜世平;谢伟民;张宜文;钟勇 申请(专利权)人: 四川云盾光电科技有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 贾林
地址: 610000 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 高分子 基材 反射 光栅
【权利要求书】:

1.一种高分子基材反射式光栅盘,其特征在于,包括由上至下依次层叠设置的薄膜组件、胶层、基板;

所述薄膜组件远离吸光胶层的一侧设置有形成光发射取和光吸收区的光栅图案;所述薄膜组件为PI镀铝薄膜;所述PI镀铝薄膜包括设置在吸光胶层上的PI膜、设置在PI膜上的铝膜;所述光栅图案设置在铝膜上。

2.根据权利要求1所述的一种高分子基材反射式光栅盘,其特征在于,所述PI膜的厚度为0.1-0.25mm。

3.根据权利要求1所述的一种高分子基材反射式光栅盘,其特征在于,所述胶层为吸光胶层。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种高分子基材反射式光栅盘,其特征在于,所述基板采用铝板或钢板制成。

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