[实用新型]一种磁芯有效

专利信息
申请号: 202223535211.4 申请日: 2022-12-29
公开(公告)号: CN219321138U 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 王荣杰;徐博成;卜简 申请(专利权)人: 苏州天源磁业股份有限公司
主分类号: H01F27/08 分类号: H01F27/08;H01F27/24;H01F27/26
代理公司: 苏州根号专利代理事务所(普通合伙) 32276 代理人: 项丽
地址: 215500 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种
【说明书】:

本实用新型涉及一种磁芯,涉及磁芯技术领域,解决了现有的磁芯在工作中磁路不均匀,线包设计较为复杂,漏感较大的问题,包括底座、沿底座的边缘向上凸起的侧壁,以及位于侧壁内侧且沿底座向上凸起的中柱,中柱居中设置在底座上,中柱的中部设置有沿轴向方向向底座延伸并穿过底座的通孔,通孔居中设置在所述中柱上且其形状与所述中柱的形状相同;第一侧壁与所述第二侧壁面向所述中柱的面呈平面设置,第一侧壁和第二侧壁沿着其长度方向的两侧且朝向所述中柱的侧面上均设置有凸块,凸块的高度与侧壁的高度相同;具有磁芯工作时的磁路均匀,且线包设计比较方便;磁芯散热路径相同,散热均匀,通过凸块的设置增加磁芯对线圈的包角,减小线圈漏感的效果。

技术领域

本实用新型涉及磁芯技术领域,特别是涉及一种磁芯。

背景技术

现有的专利公告号“CN209625999U”公开了一种新型磁芯,包括底座、沿所述底座的边缘向上凸起的侧壁,以及位于所述侧壁内侧且沿所述底座向上凸起的中柱,所述中柱相对所述底座的第一侧的距离大于相对所述底座的第二侧 的距离,所述第一侧和所述第二侧相对设置。通过将中柱设计成相对所述底座的第一侧的距离大于相对所述底座的第二侧的距离,从而使得中柱偏向底座的一侧,便于线圈从所述底座的底部出线,不需要线圈从所述新型磁芯的外侧引出,因此减少了磁性器件的安装尺寸,满足高功率密度的要求。进一步地,通过在所述中柱的中部位置设置沿垂直方向延伸的通孔,可以加大散热面积,进而增加磁性元件的散热能力。

上述内容描述存在以下问题,此结构的磁芯中的中柱偏向底座的一侧,在工作时易存在磁路不均匀,线包设计较为复杂,且此磁芯对线圈包角较小,线圈漏感较大的问题。

实用新型内容

本实用新型目的是要提供一种磁芯,解决了现有的磁芯在工作中磁路不均匀,线包设计较为复杂,漏感较大的问题。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

本实用新型提供了一种磁芯,包括底座、沿所述底座的边缘向上凸起的侧壁,以及位于所述侧壁内侧且沿所述底座向上凸起的中柱,所述侧壁包括分别设置在所述底座的两个短边的第一侧壁和第二侧壁,所述中柱居中设置在所述底座上,所述中柱的中部设置有沿轴向方向向所述底座延伸并穿过所述底座的通孔,所述通孔居中设置在所述中柱上且其形状与所述中柱的形状相同;

所述第一侧壁与所述第二侧壁面向所述中柱的面呈平面设置,所述第一侧壁和第二侧壁沿着其长度方向的两侧且朝向所述中柱的侧面上均设置有凸块,所述凸块的高度与侧壁的高度相同。

进一步地,所述凸块的截面呈直角梯形设置,位于同一个侧壁上的两个所述凸块相对的侧面呈弧面设置。

进一步地,所述中柱的截面呈矩形设置,所述中柱的多个角位置分别呈倒圆角设置。

进一步地,所述第一侧壁与所述第二侧壁的高度高于所述中柱的高度。

进一步地,所述底座、所述侧壁和所述中柱一体成型设置。

由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:

本实用新型的一种磁芯,通过将中柱居中设置在底座上,磁芯工作时的磁路均匀,且线包设计比较方便;通过将通孔的形状与中柱的形状相同设置,使通孔的任一位置的内壁到中柱外侧面之间的厚度都相同,磁芯散热路径相同,散热均匀,通过凸块的设置可增加磁芯对线圈的包角,减小线圈的漏感;

进一步的,中柱的截面呈矩形设置,中柱的多个角位置分别呈倒圆角设置,通过将中柱呈矩形设置,在不改变功率的情况下,更适用于实际的安装空间,且也更利于散热。

附图说明

后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本实用新型的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解,这些附图未必是按比例绘制的。附图中:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州天源磁业股份有限公司,未经苏州天源磁业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202223535211.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top