[实用新型]一种半导体设备用碳化硼聚焦环有效
申请号: | 202223560671.2 | 申请日: | 2022-12-30 |
公开(公告)号: | CN219123179U | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
发明(设计)人: | 赵国璋;王洪涛;谢铭 | 申请(专利权)人: | 中硼科技(威海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 大连千益智行专利代理有限公司 21270 | 代理人: | 佟蕊 |
地址: | 264200 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 备用 碳化 聚焦 | ||
1.一种半导体设备用碳化硼聚焦环,包括碳化硼聚焦环主体(1),其特征在于:
外部连接凸台(2),其设置在所述碳化硼聚焦环主体(1)的外部,所述碳化硼聚焦环主体(1)与外部连接凸台(2)设置为一体成型结构,所述外部连接凸台(2)的外部设置有防护连接孔(3),所述防护连接孔(3)设置有若干个;
防护缓冲包覆橡胶支架(5),其设置在所述碳化硼聚焦环主体(1)的外侧,所述防护缓冲包覆橡胶支架(5)与外部连接凸台(2)通过卡槽连接。
2.根据权利要求1所述的一种半导体设备用碳化硼聚焦环,其特征在于:所述防护缓冲包覆橡胶支架(5)的内侧设置有防脱橡胶柱(6),所述防脱橡胶柱(6)与防护缓冲包覆橡胶支架(5)设置为一体成型结构。
3.根据权利要求2所述的一种半导体设备用碳化硼聚焦环,其特征在于:所述防脱橡胶柱(6)设置有若干个。
4.根据权利要求1所述的一种半导体设备用碳化硼聚焦环,其特征在于:所述碳化硼聚焦环主体(1)的内侧设置有内部凸台(4),所述内部凸台(4)与碳化硼聚焦环主体(1)设置为一体成型结构。
5.根据权利要求1所述的一种半导体设备用碳化硼聚焦环,其特征在于:所述防护缓冲包覆橡胶支架(5)的外部设置有磨砂防滑层(7),所述磨砂防滑层(7)设置有八个。
6.根据权利要求1所述的一种半导体设备用碳化硼聚焦环,其特征在于:所述防护缓冲包覆橡胶支架(5)的外部设置有标识喷码区(8),所述标识喷码区(8)设置有八个。
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