[发明专利]用于在电镀期间调整流体动力学的空间及尺寸上非均一槽形板

权利要求书

1.一种电镀设备，包括：

(a)电镀腔室，配置成在将金属电镀到衬底上时含有电解质和阳极；

(b)衬底固持器，配置成固持所述衬底，使得所述衬底的镀覆面在电镀期间与所述阳极分隔开；

(c)离子电阻性元件，包括：

(i)槽形板，适用于在电镀期间通过所述离子电阻性元件提供离子传输；

(ii)面向衬底侧，与所述衬底的所述镀覆面平行且与所述衬底的所述镀覆面分隔开一间隙；以及

(iii)多个肋状物，定位于所述离子电阻性元件的所述面向衬底侧上，其中所述多个肋状物包括具有完整最大高度的第一多个肋状物和具有比所述完整最大高度更小的最大高度的第二多个肋状物；

(d)所述间隙的入口，用于将横流电解质引入到所述间隙；以及

(e)所述间隙的出口，用于容纳在所述间隙中流动的横流电解质，

其中所述入口和所述出口在电镀期间定位于所述衬底的所述镀覆面上的方位上相对周边位置附近。

2.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述离子电阻性元件经定位，使得具有较小最大高度的所述第二多个肋状物接近所述间隙的所述入口。

3.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所有肋状物彼此平行且垂直于所述间隙中的所述横流电解质的流动方向。

4.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述第二多个肋状物包括具有不同最大高度的至少两个肋状物。

5.根据权利要求1中任一项所述的电镀设备，其中所述第二多个肋状物中的所述肋状物经布置，使得所述最大肋状物高度在从离子电阻性板的边缘到中心的方向上增加，且其中具有较低高度的所述第二多个肋状物仅安置在所述离子电阻性板的一侧上。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的电镀设备，其中肋状物的总数目在约15与30之间，且具有较低最大高度的所述第二多个肋状物具有在约2个与10个之间的肋状物。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的电镀设备，其中所述肋状物的所述完整最大高度小于约5毫米。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的电镀设备，其中所述肋状物的所述完整最大高度为约1毫米至3毫米。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的电镀设备，其中所述衬底固持器的底部部分与所述离子电阻性元件之间的所述间隙小于约20毫米。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的电镀设备，其中所述肋状物中的至少一些具有可变高度。

11.根据权利要求1至5中任一项所述的电镀设备，其中所述肋状物中的至少一些具有可变高度，且其中肋状物高度在朝向所述肋状物的边缘的方向上逐渐减小。

12.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述离子电阻性元件包括区，其中肋状物高度低于所述完整最大高度，且其中所述区通常为新月形。

13.根据权利要求12所述的电镀设备，其中所述区位于所述间隙的所述入口或所述出口附近。

14.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述离子电阻性元件包括区，其中肋状物高度低于所述完整最大高度，且其中所述区通常为环形。

15.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述离子电阻性元件包括区，其中肋状物高度低于所述完整最大高度，且其中所述区具有马丁尼杯形状。

16.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述离子电阻性元件包括多个非通信通道。

17.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述离子电阻性元件包括通信通道的3-D网络。