[发明专利]分析系统、及分析图像的制造方法在审

专利信息
申请号: 202280005417.X 申请日: 2022-06-23
公开(公告)号: CN116324395A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 内海英雄 申请(专利权)人: 株式会社雷弥
主分类号: G01N24/08 分类号: G01N24/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 分析 系统 图像 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种分析系统,其具有图像构成部,

所述图像构成部具备存储部和图像运算部,

所述存储部至少存储核心图像像素信息和操作图像像素信息,

所述核心图像像素信息和所述操作图像像素信息包括同一试样的同一分析对象区域且包含以不同的拍摄方式拍摄的规定数量的像素,

所述操作图像像素信息是包括分析信息且亮度和/或分辨率低于所述核心图像像素信息的图像像素信息,

所述图像运算部通过对至少1个以上的所述核心图像像素信息和至少1个以上的所述操作图像像素信息进行包括哈达玛积的运算而构建新的创建图像像素信息。

2.根据权利要求1所述的分析系统,其中,

在所述操作图像像素信息中包含的像素数少于所述核心图像像素信息中包含的像素数时,所述图像运算部在进行所述包括哈达玛积的运算之前,进行对所述操作图像像素信息中包含的像素数进行插值以使所述操作图像像素信息中包含的像素数与所述核心图像像素信息中包含的像素数一致的运算。

3.根据权利要求1所述的分析系统,其中,

还具备包括所述核心图像像素信息与所述操作图像像素信息对位的图像编辑功能。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的分析系统,其中,

还具有图像拍摄部。

5.根据权利要求4所述的分析系统,其中,

所述图像拍摄部以磁共振为原理。

6.一种分析图像的制造方法,其构建新的创建图像,其中,

操作图像像素信息是包括分析信息且亮度和/或分辨率低于核心图像像素信息的图像像素信息,

所述分析图像的制造方法包括如下工序:

准备所述操作图像像素信息和所述核心图像像素信息为包括同一试样的同一分析对象区域且包含以彼此不同的拍摄方式拍摄的规定数量的像素的图像像素信息时的所述核心图像像素信息和所述操作图像像素信息;以及

对至少1个以上的所述核心图像像素信息和至少1个以上的所述操作图像像素信息进行包括哈达玛积的运算。

7.根据权利要求6所述的分析图像的制造方法,其中,

在所述操作图像像素信息中包含的像素数少于所述核心图像像素信息中包含的像素数时,在进行所述包括哈达玛积的运算之前,进行对所述操作图像像素信息中包含的像素数进行插值以使所述操作图像像素信息中包含的像素数与所述核心图像像素信息中包含的像素数一致的运算。

8.根据权利要求6所述的分析图像的制造方法,其中,还具有如下工序:

在进行所述包括哈达玛积的运算的工序之前,进行包括所述核心图像像素信息与所述操作图像像素信息对位的图像编辑。

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