[发明专利]膜层组件和电子设备在审
| 申请号： | 202310002319.7 | 申请日： | 2023-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN116125561A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 郑婷婷;朱林波 | 申请（专利权）人： | 维沃移动通信有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B27/36;B32B27/30;B32B3/26;B32B9/00;B32B9/04;B32B33/00;G02B5/22;G02B1/11;G02B13/00;G03B17/00 |
| 代理公司： | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人： | 郑晓婷;尚志峰 |
| 地址： | 523863 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 组件 电子设备 | ||
1.一种膜层组件，用于摄像装置，其特征在于，包括：
基板；
功能膜层；
紫外吸收层，所述紫外吸收层连接于所述基板和所述功能膜层之间；所述基板朝向所述紫外吸收层的一侧设有凸凹部，所述紫外吸收层的一部分填充于所述凸凹部。
2.根据权利要求1所述的膜层组件，其特征在于，所述紫外吸收层包括钛酸镧层。
3.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，所述紫外吸收层的折射率大于或等于1.99/550nm，且小于或等于2.1/550nm；
所述紫外吸收层的厚度大于或等于20nm，且小于或等于300nm。
4.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，还包括：
耐磨层，设于所述功能膜层背离所述紫外吸收层的一侧。
5.根据权利要求4所述的膜层组件，其特征在于，所述耐磨层包括硅氧烷改性全氟聚醚聚合物层。
6.根据权利要求5所述的膜层组件，其特征在于，所述耐磨层的表面张力大于或等于17mN/m，且小于或等于25mN/m。
7.根据权利要求1所述的膜层组件，其特征在于，所述凸凹部的凸起的表面粗糙度均方根大于或等于0.8nm，且小于或等于100nm；
所述凸起在垂直于所述膜层组件的厚度方向上的宽度大于或等于10nm，且小于或等于400nm。
8.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，所述功能膜层包括：
多个第一功能部，多个所述第一功能部叠置，每个所述第一功能部包括第一二氧化硅层和钛铝化合物层，所述第一二氧化硅层叠置于所述钛铝化合物层远离所述紫外吸收层的一侧。
9.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，所述功能膜层包括：
多个第二功能部，多个所述第二功能部叠置，每个所述第二功能部包括二氧化硅层和第二二氧化钛层，所述第二二氧化硅层叠置于所述二氧化钛层远离所述紫外吸收层的一侧；
二氧化硅功能部，所述二氧化硅功能部位于所述多个第二功能部和所述紫外吸收层之间。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
如权利要求1至9中任一项所述的膜层组件。
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