[发明专利]一种光损伤模型

权利要求书

1.一种光损伤模型，其特征在于，包括：暗箱箱体，

暗箱箱体内设有培养皿，所述培养皿用以细胞培养；

暗箱箱体内顶壁设有光照组件，所述光照组件用以提供暗箱箱体内的光照强度；

暗箱箱侧壁设有第一阀口，所述第一阀口用于连接供气设备，以提供暗箱形体内的气体浓度；

暗箱箱体内设有气体浓度检测传感器，用以监测暗箱箱体内的气体浓度；

暗箱箱体设有温度控制仪，所述温度控制仪用以控制暗箱箱体内的温度；

所述光照组件、第一阀口、气体浓度检测传感器和温度监测控制仪均与控制器连接，控制器用以调控暗箱箱体内光照强度、气体浓度和温度。

2.根据权利要求1所述的光损伤模型，其特征在于，所述光照组件包括：可调角度支架，

设置于可调角度支架上的LED灯板；

所述LED灯板包括LED灯和用以控制LED灯光照强度的灯板电路，灯板电路与所述控制器连接。

3.根据权利要求1所述的光损伤模型，其特征在于，所述LED灯板的光照强度范围为1000～3000Lux，LED灯板的波长范围为200-600nm。

4.根据权利要求1所述的光损伤模型，其特征在于，所述供气设备为二氧化碳供气设备，气体浓度检测传感器为二氧化碳浓度检测传感器。

5.根据权利要求3所述的光损伤模型，其特征在于，所述温度控制仪包括：

设置于暗箱箱体内的温度传感器，

以及，散热器；

所述散热器用以暗箱箱体的散热，所述温度传感器用以检测暗箱箱体内的温度。

6.根据权利要求5所述的光损伤模型，其特征在于，所述散热器为风冷装置和液冷装置中的一种或多种。

7.根据权利要求6所述的光损伤模型，其特征在于，所述风冷装置为散热风扇，散热风扇设置于暗箱箱体内；液冷装置为水冷装置或油冷装置；

水冷装置包括冷却水管和水循环系统，冷却水管围绕所述暗箱箱体的外壁设置；

油冷装置包括冷却油管和油循环系统，冷却油管围绕所述暗箱箱体的外壁设置。

8.根据权利要求1至7任意一项所述的光损伤模型，其特征在于，所述暗箱箱体底部设有托盘组件，托盘组件包括伸缩杆，以及设置于伸缩杆上的托盘；托盘用以承载所述培养皿，伸缩杆用以调节托盘及培养皿距光照组件的距离。

9.根据权利要求8所述的光损伤模型，其特征在于，所述暗箱箱体的内壁面设有反光板。

10.根据权利要求9所述的光损伤模型，其特征在于，所述控制器为单片机控制器或PLC控制器。