[发明专利]一种用于线列铟镓砷探测器的盲元抑制结构及实现方法在审

专利信息
申请号: 202310027644.9 申请日: 2023-01-09
公开(公告)号: CN116230789A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 邵秀梅;李雪;程吉凤;杨波;于春蕾 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;G01D5/30;G01D5/34;H01L31/102;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 线列铟镓砷 探测器 抑制 结构 实现 方法
【权利要求书】:

1.一种用于线列铟镓砷探测器的盲元抑制结构,所述的探测器为背照射结构,其特征在于:在光敏元上设计n行×m列正方形光敏元扩散孔D11~Dnm,其中,n为行数、m为列数,1n≤3,m≥512,在光敏区外围设计一个环状的保护环扩散孔(1);在每个光敏元扩散孔上设置一个P电极孔(2),在位于保护环的上下两侧各设计一行保护环P电极孔(3),与光敏元的P电极孔(2)一一对应,在保护环的上侧、下侧各设置一个N电极槽(4);每个光敏元P电极孔(2)上沉积一个P电极(5),探测器设置两个延伸电极(6),分别覆盖上侧和下侧的保护环P电极孔(3)与N电极槽(4),将保护环P区与探测器N区合并引出。

2.一种用于线列铟镓砷探测器的盲元抑制结构的实现方法,其特征在于方法如下:在N-InP/I-InGaAs/N-InP结构的外延材料上,通过光刻、刻蚀获得n行、m列光敏元扩散孔D11~Dnm、保护环扩散孔(1),通过Zn3P2掺杂源进行闭管扩散形成光敏元P区、保护环P区,在芯片表面沉积SiNx钝化层,分别通过光刻、刻蚀获得光敏元P电极孔(2)、保护环P电极孔(3)、N电极槽(4),通过光刻、蒸发单层Au,获得光敏元P电极(5)、延伸电极(6),通过延伸电极将保护环P区与器件N区合并引出。

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