[发明专利]质量分析方法及质量分析装置

说明书

本发明的质量分析装置即使在CE值个数不同的情况下也将累计质谱的图案的变化抑制得较小，具备包括碰撞池(17)和对产物离子进行质量分析的质量分离部(20～23)的测量部(1)，能够执行MS/MS分析，该质量分析装置具备：CES法条件决定部(321)，与包含CE值的范围及CE值的个数的条件对应来决定CES法中的多个CE值，以将个数为n+1(其中n为3以上的任意整数)时的n+1个CE值设为在该个数为n时的n个CE值加入与其不同的1个CE值而得的值的方式，决定n+1个CE值；分析控制部(30)，将CE依次变化为在CES法条件决定部中决定的n+1个CE值，并且控制测量部以执行各CE值下的MS/MS分析；数据处理部(33)，累计分别得到的不同CE值下的质谱来获取累计质谱。

技术领域

本发明涉及能够进行MS/MS分析的质量分析装置及该质量分析装置中的质量分析方法。

背景技术

为了鉴定分子量大的化合物或解析其化合结构，作为质量分析的方法之一的MS/MS分析是有用的方法。作为能够进行MS/MS分析的质量分析装置，众所周知有三重四极型质量分析装置和四极-飞行时间型质量分析装置(以下称为“Q-TOF型质量分析装置”)。一般来说，这些质量分析装置具备碰撞池，使具有规定的能量(碰撞能量)并导入到碰撞池内的离子与碰撞气体碰撞，产生碰撞诱导解离(C I D)，从而使该离子解离。然后，对通过该解离而生成的产物离子进行质量分析从而生成质谱(产物离子谱)。

化合物中的各种键合部位的键合能量因其部位而异，因此键合部位的容易被切断的程度也因其部位而异。因此，在上述质量分析装置中，若使导入到碰撞池的离子所具有的碰撞能量(以下有时简称为“CE”)变化，则即使是源自相同化合物的相同离子，解离的方式不同，得到的产物离子谱的峰图案也有所不同。

一般来说，为了鉴定具有复杂的化学结构的化合物或进行结构解析，判明源自该化合物的各种片段的质量比较方便。因此，以往已知有碰撞能量扩展法(以下称为“CES法”)这样的分析方法，对一个目标化合物将CE值改变为多个阶段同时反复进行产物离子扫描测量，累计这样得到的多个质谱从而生成可观测到各种种类的产物离子的质谱(参照专利文献1等)。这样生成的累计的质谱(以下称为“累计质谱”)是混杂了源自通过在不同CE值下的解离而生成的各种产物离子的峰的质谱。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2019/229942号

发明内容

发明要解决的技术问题

在CES法中期望累计各种CE值下的质谱，但此时的CE值的个数(CE值的变化的级数)受到质谱的累计次数和测量时间等分析条件的限制。在现有的质量分析装置中，CES法时的CE值是通过将作为分析条件之一的直接或间接指定的CE值的范围(下限值～上限值)除以由谱累计次数或分配给基于CES法的测量的时间等限制确定的CE值个数来决定的。例如，在CE值范围为20～50V、CE值个数为5的情况下，CES法中的CE值(V)为20、27.5、35、42.5、50的5个阶段。此外，在相同的CE值范围内CE值个数为4的情况下，CES法中的CE值(V)为20、30、40、50的4个阶段。另外，CE值的单位有时也使用eV，但由于通常用提供碰撞能量的电压示出的情况较多，因此在此将单位统一为V。

如此，即使CE值范围相同，若CE值个数即分析条件不同，则CE值也会发生较大变化，其结果为，有时累计质谱的图案会发生较大变化。累计质谱对于利用了基于数据库的图案匹配等进行的化合物的鉴定是有用的，但若在CE值个数不同的情况下累计质谱的图案的变化较大，则有可能妨碍如上所述的化合物鉴定。此外，也存在难以比较不同的累计质谱的问题。

本发明是为了解决上述技术问题而完成的，其主要目的在于，提供一种在获取基于CES法的累计质谱时，即使在改变CE值个数的情况下也能够避免累计质谱的图案发生较大变化的质量分析方法及质量分析装置。

用于解决上述技术问题的方案