[发明专利]一种用于碳化硅晶片抛光液的组合物、抛光液及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种用于碳化硅晶片抛光液的组合物，其特征在于，该组合物中含有各自独立保存或者两者以上混合保存的以下组分：

磨料、分散稳定剂、化学添加剂、湿润剂、纳米粉末、pH调节剂、水；

所述磨料为氧化硅平均粒径为80-120nm的纳米氧化硅水溶胶和平均粒径为10-120nm的氧化铝中的至少一种；

所述纳米粉末的平均粒径为1-5nm；

所述化学添加剂为过氧化氢或氧化铬；

以干基计，并以所述磨料、所述分散稳定剂、所述化学添加剂、所述湿润剂、所述纳米粉末、所述pH调节剂的总重量为基准，所述磨料的含量为5-26wt％，所述分散稳定剂的含量为40-60wt％，所述化学添加剂的含量为0.1-10wt％，所述湿润剂的含量为0.1-10wt％，所述纳米粉末的含量为0.1-8wt％，所述pH调节剂的含量为0.01-10wt％。

2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述分散稳定剂选自六偏磷酸钠、聚乙烯醇、聚丙二醇中的至少一种；和/或

所述湿润剂选自乙醇胺、1,3-丁二醇和三乙醇胺中的至少一种；和/或

所述pH调节剂选自乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、N-(2-羟乙基)乙二胺、氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一种。

3.一种制备碳化硅晶片抛光液的方法，其特征在于，该方法应用权利要求1或2中所述组合物中的各组分进行，包括：

(1)将水、分散稳定剂和磨料进行接触混合I，得到混合物I；

(2)将化学添加剂、湿润剂和所述混合物I进行接触混合II，得到混合物II；

(3)将纳米粉末和所述混合物II进行接触混合III，得到抛光液；

其中，所述化学添加剂为过氧化氢或氧化铬。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在步骤(1)中，所述接触混合I的操作在超声的条件下进行，包括第一超声处理、第二超声处理、第三超声处理、第四超声处理；

其中，所述第一超声处理至少满足：频率为40-60Hz，温度为20-30℃，时间为5-20min；和/或

所述第二超声处理至少满足：频率为80-120Hz，温度为20-30℃，时间为5-20min；和/或

所述第三超声处理至少满足：频率为180-220Hz，温度为20-30℃，时间为5-20min；和/或

所述第四超声处理至少满足：频率为450-550Hz，温度为20-30℃，时间为5-20min。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于，在步骤(2)中，所述接触混合II在超声的条件下进行，且至少满足：频率为30-50Hz，温度为20-30℃，时间为2-10min。

6.根据权利要求3-5中任意一项所述的方法，其特征在于，在步骤(3)中，所述接触混合III在超声的条件下进行，且至少满足：频率为30-50Hz，温度为20-30℃，时间为2-10min。

7.根据权利要求3-6中任意一项所述的方法，其特征在于，所述化学添加剂为氧化铬；且使用pH调节剂将所述抛光液的pH调至3-6.5，得到碳面抛光液。

8.根据权利要求3-6中任意一项所述的方法，其特征在于，所述化学添加剂为过氧化氢；且使用pH调节剂将所述抛光液的pH调至7.5-11，得到硅面抛光液。

9.由权利要求3-8中任意一项所述的方法制备得到的碳化硅晶片抛光液。

10.权利要求9所述的碳化硅晶片抛光液在清洗碳化硅晶片制造领域中的应用。