[发明专利]散射光学计算方法、装置、计算机设备及存储介质

权利要求书

1.一种散射光学计算方法，其特征在于，所述方法包括：

对样品膜的粒子平均直径、体积分数和样本厚度进行初始随机训练，得到所述样品膜的散射颗粒部分的厚度分布；

对所述厚度分布进行傅里叶变换，得到相应的空间频谱，并对所述空间频谱进行正态分布统计拟合，得到所述空间频谱的正态分布的标准差和振幅；

根据所述空间频谱的正态分布的标准差和振幅，计算所述厚度分布的标准偏差；

根据所述厚度分布的标准偏差和预设相位扰动计算公式，计算入射光线穿过所述样品膜时所引起的相位扰动的标准偏差；

根据所述相位扰动的标准偏差，计算所述入射光线的非散射光转换率。

2.根据权利要求1所述的散射光学计算方法，其特征在于，所述对样品膜的粒子直径、体积分数和样本厚度进行初始随机训练，得到所述样品膜的散射颗粒部分的厚度分布，包括：

当所述入射光线通过所述样品膜时，设定所述粒子平均直径为d的散射颗粒的厚度分布被一个高斯半径为d的高斯矩阵取代；

当所述入射光线通过所述样品膜的散射颗粒时，随机排列的若干个叠加图像被确定为所述样品膜的散射颗粒部分的厚度分布。

3.根据权利要求2所述的散射光学计算方法，其特征在于，所述对所述空间频谱进行正态分布统计拟合，得到所述空间频谱的正态分布的标准差，包括：

所述空间频谱的正态分布的标准差的计算公式为：

其中，σ_ω为所述空间频谱的正态分布的标准差，d为所述散射颗粒的粒子平均直径。

4.根据权利要求2所述的散射光学计算方法，其特征在于，所述对所述空间频谱进行正态分布统计拟合，得到所述空间频谱的正态分布的振幅，包括：

所述空间频谱的正态分布的振幅的计算公式为：

其中，A_ω为所述空间频谱的正态分布的振幅，d为所述散射颗粒的粒子平均直径，t_a为所述样本厚度，η_v为所述散射颗粒的体积分数。

5.根据权利要求1所述的散射光学计算方法，其特征在于，所述根据所述空间频谱的正态分布的标准差和振幅，计算所述厚度分布的标准偏差，包括：

所述厚度分布的标准偏差的计算公式为：

其中，σ_t为所述厚度分布的标准偏差，A_ω为所述空间频谱的正态分布的振幅，σ_ω为所述空间频谱的正态分布的标准差。

6.根据权利要求1所述的散射光学计算方法，其特征在于，所述根据所述厚度分布的标准偏差和预设相位扰动计算公式，计算入射光线穿过所述样品膜时所引起的相位扰动的标准偏差，包括：

所述入射光线穿过所述样品膜时所引起的相位扰动的计算公式为：

其中，为所述入射光线穿过所述样品膜时所引起的相位扰动，k为所述入射光线的波数，Δn为所述样品膜的散射颗粒和介质部分的折射率差，t(x,y)为所述散射颗粒部分的厚度分布；

所述入射光线穿过所述样品膜时所引起的相位扰动的标准偏差的计算公式为：

其中，为所述入射光线穿过所述样品膜时所引起的相位扰动的标准偏差，σ_t为所述厚度分布的标准偏差。

7.根据权利要求1所述的散射光学计算方法，其特征在于，所述根据所述相位扰动的标准偏差，计算所述入射光线的非散射光转换率，包括：

所述入射光线的非散射光转换率的计算公式为：

其中，η_NSC为所述入射光线的非散射光转换率，为单位周期内的相位扰动，