[发明专利]一种硼扩散炉管维护效果检测方法

权利要求书

1.一种硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，包括：

S1：选择原硅片，对所述原硅片进行双面抛光；

S2：对所述原硅片进行双面硼扩散，并测试扩后硅片的方阻；

S3：筛选出符合生产要求的合格扩后硅片，并去除合格的所述扩后硅片表面的硼硅玻璃；

S4：在所述扩后硅片的双面加工形成氮化硅膜，用于钝化和保护硅片表面；

S5：烧结处理所述扩后硅片；

S6：对处理后的硅片进行Sinton测试，并记录少子寿命、反向饱和电流密度和开路电压。

2.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S1中，对所述原硅片进行双面抛光之前，先使用碱液所述原硅片进行清洗，再对所述原硅片进行清水喷淋；所述碱液为氢氧化钾和过氧化氢的混合液，氢氧化钾的浓度为1-2％(w％)，过氧化氢的浓度为5.5-6.5％(w％)，反应温度为55-65℃，清洗时间为1.5-2.5分钟。

3.如权利要求2所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S1中，将所述原硅片置于碱性液体中进行双面抛光。

4.如权利要求3所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S1中，对所述原硅片进行双面抛光之后，先对双面抛光后的原硅片进行清水喷淋，再使用酸液进行酸洗，然后采用慢提拉清洗，最后进行烘干；所述酸液为盐酸和氢氟酸的混合液，盐酸的浓度为3-5％(w％)，氢氟酸的浓度为3-5％(w％)；所述慢提拉清洗在冷水中进行。

5.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S1中，对所述原硅片进行双面抛光后，将所述原硅片放置于氮气环境下。

6.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S2中，使用硼扩散炉对所述原硅片进行双面硼扩散，且分别在所述硼扩散炉的炉口、炉中及炉尾进行所述原硅片的双面硼扩散；在S6中，对处理后的硅片进行Sinton测试后，所记录少子寿命、反向饱和电流密度和开路电压的数据为在所述硼扩散炉的炉口、炉中及炉尾测试数据的平均值。

7.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S3中，使用氢氟酸去除所述扩后硅片上的硼硅玻璃；氢氟酸的浓度为3-5％(w％)，反应时间为6-10分钟。

8.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S4中，所述氮化硅膜的膜厚为60-70nm，折射率2.05-2.2。

9.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S5中，烧结处理所述扩后硅片后，收集硅片并使用隔纸隔开放置。

10.如权利要求1所述的硼扩散炉管维护效果检测方法，其特征在于，在S6中，对硅片进行PL测试，并记录硅片的光致发光光谱数据。