[发明专利]一种具有高动态测量精度的硅谐振压力传感器有效

专利信息
申请号: 202310080263.7 申请日: 2023-02-08
公开(公告)号: CN115790913B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 胡宗达;周红;宫凯勋;李宁;张坤;张林 申请(专利权)人: 成都凯天电子股份有限公司
主分类号: G01L1/16 分类号: G01L1/16
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610091 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 具有 动态 测量 精度 谐振 压力传感器
【说明书】:

本发明公开了一种具有高动态测量精度的硅谐振压力传感器,包括具有离子掺杂的100晶向的硅晶圆,硅晶圆衬底设有切边为110晶向的硅晶圆定位边;硅晶圆上布设有硅谐振压力芯片单元,硅谐振压力芯片单元的表面设有谐振梁,谐振梁通过锚点固定在硅晶圆上,谐振梁外围的两侧分别设置有一个驱动电极,位于谐振梁的中间布置检测电极。本发明采用基于晶向‑掺杂效应的原位温度自补偿方法,通过在常规100晶向的晶圆上设置特定的谐振梁晶向方向,并利用掺杂工艺改变单晶硅材料的杨氏模量温漂系数,减小了对应晶向谐振梁的热灵敏度指标,形成一个对温度不敏感的谐振梁结构,解决了外界环境温度快速变化带来的动态误差降低的影响,产品工艺简单,良率高。

技术领域

本发明属于半导体微机电系统的技术领域,具体涉及一种具有高动态测量精度的硅谐振压力传感器。

背景技术

随着微机电技术的发展,MEMS(半导体微机电系统)硅谐振压力传感器因其高精度、高稳定性、可批量化制造、尺寸小、功耗低等特点在航空航天、工业控制、气象测量等领域具有越来越广泛的应用。硅谐振压力传感器通常由压力敏感膜片和谐振器组成,当外界压力作用于敏感膜片上时,敏感膜片会发生挠曲变形,引起膜片上谐振器刚度发生改变,最终导致谐振器的谐振频率发生变化,通过检测谐振频率的变化即可获得外界压力值的大小。

硅谐振压力传感器的主要应用领域为航空机载大气数据系统,用于测量飞行器在飞行过程中的高度、速度等飞行参数。当飞行器在快速拉升与下降的过程中,周遭环境温度发生剧烈变化,此时谐振压力传感器的动态测量精度会急剧降低,导致飞行参数测量产生误差,极大地影响飞行安全。传统的硅谐振压力传感器如法国Tales公司的P90系列产品(美国专利US2005/0118920A1“METHOD FOR THE PRODUCTIONOFA MICROSTRUCTURECOMPRISINGA VACUUM CAVITY AND A MICROSTRUCTURE”)采用在硅谐振芯片表面集成温度传感器,通过温度传感器实时采集温度,后续软件处理的方法进行精度补偿,然而这种方案无法保证温度传感器与硅谐振芯片对外界温度快速变化响应的一致性,往往导致动态精度补偿的效果不佳。专利号为CN201510599539.8的“谐振式压力传感器”则采用差分的双谐振梁结构,通过引入两个相互对称的谐振梁结构,保持两者热灵敏度的一致性,通过差分做减的方法消除环境温度带来的影响。但是该方案对工艺要求极高,必须保证两个谐振梁的结构完全一致性,否则反而容易造成测量精度下降的问题,进一步导致产品生产良率低下。除此之外,两个对称谐振梁结构需要两套闭环检测电路,也加大了接口电路的复杂程度。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术中的上述不足,提供一种具有高动态测量精度的硅谐振压力传感器,以解决现有外界环境温度快速变化带来的硅谐振压力传感器的动态误差的问题。

为达到上述目的,本发明采取的技术方案是:

一种具有高动态测量精度的硅谐振压力传感器,其包括具有离子掺杂的100晶向的硅晶圆,硅晶圆衬底设有切边为110晶向的硅晶圆定位边;硅晶圆上布设有硅谐振压力芯片单元,硅谐振压力芯片单元的表面设有谐振梁,谐振梁通过锚点固定在硅晶圆上,谐振梁外围的两侧分别设置有一个驱动电极,位于谐振梁的中间布置检测电极。

进一步地,硅晶圆为具有n型离子掺杂的100晶向的第一硅晶圆,第一硅晶圆中掺杂有P离子,P离子的掺杂浓度大于8e19/cm3

进一步地,硅谐振压力芯片单元的布置方向与100晶向的方向平行,硅谐振压力芯片单元的布置方向为沿所述硅晶圆定位边逆时针旋转45°。

进一步地,谐振梁为具有100晶向的第一谐振梁,第一谐振梁的径向方向为沿硅晶圆定位边逆时针旋转45°。

进一步地,硅晶圆为具有P型离子掺杂的100晶向的第二硅晶圆,第二硅晶圆中掺杂有B离子,B离子的掺杂浓度大于5e20/cm3

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都凯天电子股份有限公司,未经成都凯天电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310080263.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top