[发明专利]一种生成表面等离激元的实验系统在审
申请号: | 202310082607.8 | 申请日: | 2023-02-08 |
公开(公告)号: | CN116300065A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 邓冬梅;陈彦儒;涂直锋;张俊熙;冯子恩;许丹琳 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B5/00 |
代理公司: | 广州容大知识产权代理事务所(普通合伙) 44326 | 代理人: | 刘新年 |
地址: | 510000 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 生成 表面 离激元 实验 系统 | ||
1.一种生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,包括激光器、干涉模块和光栅银膜;
所述激光器用于发射出高斯光束;
所述干涉模块用于将所述高斯光束分束为第一入射光束和第二入射光束,并在所述第一入射光束中加载奥尔弗光束频谱信息后,对所述第一入射光束和所述第二入射光束进行干涉处理,提取远场上正一级干涉条纹所携带的光束信息以获得奥尔弗光束的初始光场;
所述光栅银膜用于接收奥尔弗光束的初始光场后,激发表面等离激元。
2.根据权利要求1所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,所述干涉模块包括立方分束晶体、空间光调制器和空间滤波器;
立方分束晶体用于接收所述高斯光束,将所述高斯光束分为第一入射光束和第二入射光束,将所述第一入射光束发送至所述空间光调制器,将所述第二入射光束发送至空间滤波器;
所述空间光调制器用于对所述第一入射光束进行波前调制,以在所述第一入射光束中加载奥尔弗光束频谱信息,将调制后的调制光束反射至所述立方分束晶体,并经所述立方分束晶体发送至所述空间滤波器;
所述空间滤波器用于对所述调制光束和所述第一入射光束进行干涉,并提取远场上正一级干涉条纹所携带的光束信息以获得奥尔弗光束的初始光场。
3.根据权利要求2所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,还包括扩束准直系统,所述扩束准直系统设于所述激光器和所述立方分束晶体间,所述扩束准直系统用于激光器发射出的高斯光束进行扩束与准直调节。
4.根据权利要求2所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,所述空间光滤波器包括第一傅里叶透镜、光阑和第二傅里叶透镜,所述光阑设于所述第一傅里叶透镜的像方焦面处;
所述第一傅里叶透镜用于对所述调制光束和所述第二入射光束进行傅里叶变换调制;
所述光阑用于选取所述调制光束和所述第二入射光束的正一级干涉条纹;
所述第二傅里叶透镜用于对所述一级干涉条纹进行傅里叶变换,在像方焦面处获得奥尔弗光束的初始光场。
5.根据权利要求4所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,所述光栅银膜设于所述第二傅里叶透镜的像方焦面处;
所述光栅银膜包括玻璃基底,以及设于所述玻璃基底上的成光栅结构的金属银膜。
6.根据权利要求5所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,所述光栅结构呈周期性纵向排列,所述光栅结构的纵向周期长期等于正一级干涉条纹的波长。
7.根据权利要求2所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,所述奥尔弗光束频谱信息为相位全息图,所述相位全息图为奥尔弗光束的初始光场与模拟平面波干涉所获得的。
8.根据权利要求7所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,还包括计算机,所述计算机连接所述空间光调制器,所述计算机用于调整不同参数,得到不同的奥尔弗光束的初始光场,以得到不同形态的表面等离激元,并将相位全息图传输至所述空间光调制器。
9.根据权利要求8所述的生成表面等离激元的实验系统,其特征在于,还包括扫描近场光学显微镜,所述扫描近场光学显微镜用于观察在传输距离范围内的表面等离激元。
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