[发明专利]基于MEMS的空气芯微同轴传输线的制造方法在审

专利信息
申请号: 202310083329.8 申请日: 2023-01-20
公开(公告)号: CN116053748A 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 王荣栋;杨云春;张拴;马诗潇 申请(专利权)人: 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司
主分类号: H01P11/00 分类号: H01P11/00;H01P3/06
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 甄伟军
地址: 100176 北京市大兴区北京经济技术开发*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 mems 空气 同轴 传输线 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种基于MEMS的空气芯微同轴传输线的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:

在衬底上沉积一层种子层;

在所述种子层表面形成第一图案化光刻胶层,并在所述第一图案化光刻胶层的图案内电镀形成微同轴传输线的外轴底层;

采用化学机械抛光方法对所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶层的表面进行抛光,使得所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶层的表面平坦化;其中,所述化学机械抛光采用的抛光液为新型抛光液,所述新型抛光液由质量分数为5-8%的SiO2、质量分数为2-5%的甘氨酸、以及体积分数为2-8%的H2O2组成,余量为水和其它不可避免的杂质;所述新型抛光液的pH值为9.5~10.5;

在抛光后的所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶层的表面形成外轴侧壁、支撑层、内轴和外轴顶层,得到所述空气芯微同轴传输线。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述在抛光后的所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶层的表面形成外轴侧壁、支撑层、内轴和外轴顶层,得到所述空气芯微同轴传输线,包括:

在抛光后的所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶层的表面形成第一部分外轴侧壁;

在所述第一部分外轴侧壁上形成第二部分外轴侧壁和所述支撑层;

在所述第二部分外轴侧壁和所述支撑层上形成第三部分外轴侧壁,并在所述支撑层上形成所述空气芯微同轴传输线的内轴;其中,所述第二部分外轴侧壁和所述支撑层位于所述第一部分外轴侧壁和所述第三部分外轴侧壁之间;

在所述第三部分外轴侧壁上形成第四部分外轴侧壁,得到所述空气芯微同轴传输线的外轴侧壁;

在所述第四部分外轴侧壁上形成所述空气芯微同轴传输线的外轴顶层,得到所述空气芯微同轴传输线。

3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述在抛光后的所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶层的表面形成第一部分外轴侧壁,包括:

在抛光后的所述外轴底层和所述第一图案化光刻胶的表面形成第二图案化光刻胶层,并在所述第二图案化光刻胶层的图案内电镀形成所述第一部分外轴侧壁;

采用化学机械抛光方法对所述第一部分外轴侧壁和所述第二图案化光刻胶层的表面进行抛光,使得所述第一部分外轴侧壁和所述第二图案化光刻胶层的表面平坦化;

其中,所述化学机械抛光采用的抛光液为所述新型抛光液。

4.根据权利要求3所述的制造方法,其特征在于,所述在所述第一部分外轴侧壁上形成第二部分外轴侧壁和所述支撑层,包括:

在抛光后的所述第一部分外轴侧壁和所述第二图案化光刻胶层的表面形成所述支撑层;

在抛光后的所述第一部分外轴侧壁和所述第二图案化光刻胶层的表面,除所述支撑层设置区域外的其它区域形成第三图案化光刻胶层,并在所述第三图案化光刻胶层的图案内电镀形成所述第二部分外轴侧壁;

采用化学机械抛光方法对所述第二部分外轴侧壁和所述第三图案化光刻胶层的表面进行抛光,使得所述支撑层、所述第二部分外轴侧壁和所述第三图案化光刻胶层的表面平坦化;

其中,所述化学机械抛光采用的抛光液为所述新型抛光液。

5.根据权利要求4所述的制造方法,其特征在于,所述在所述第二部分外轴侧壁和所述支撑层上形成第三部分外轴侧壁,并在所述支撑层上形成所述空气芯微同轴传输线的内轴,包括:

在抛光后的所述支撑层、所述第二部分外轴侧壁和所述第三图案化光刻胶层的表面形成第四图案化光刻胶层,并在所述第四图案化光刻胶层的图案内电镀形成所述第三部分外轴侧壁和所述内轴;

采用化学机械抛光方法对所述内轴、所述第三部分外轴侧壁和所述第四图案化光刻胶层的表面进行抛光,使得所述内轴、所述第三部分外轴侧壁和所述第四图案化光刻胶层的表面平坦化;

其中,所述化学机械抛光采用的抛光液为所述新型抛光液。

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