[发明专利]来自深度MALDI光谱的灵敏且准确的特征值在审

专利信息
申请号: 202310087278.6 申请日: 2023-01-17
公开(公告)号: CN116539708A 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: H·罗德;M·科克 申请(专利权)人: 佰欧迪塞克斯公司
主分类号: G01N27/626 分类号: G01N27/626;G06V10/44;G06V10/764
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 郑浩;陈岚
地址: 美国科*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 来自 深度 maldi 光谱 灵敏 准确 特征值
【权利要求书】:

1.一种从质谱提取多个特征值的方法,所述方法包括:

读取源自基质辅助激光解吸/电离(MALDI)质谱仪的样本的质谱;读取所述质谱仪的峰形函数;

对于所述质谱的第一范围确定精细结构分量,其中确定所述精细结构分量包括:

估计所述质谱的第一背景,

从所述质谱减去所述第一背景;

对于所述质谱的所述第一范围确定凸状物结构,其中确定所述凸状物结构分量包括:

估计所述质谱的第二背景,所述第二背景比所述第一背景更硬;

从所述第一背景减去所述第二背景;

利用所述峰形函数对于所述质谱的所述第一范围计算所述精细结构分量的卷积;

从所述卷积确定所述质谱的所述第一范围中的第一多个峰;

确定指示与所述第一多个峰中的每个相关联的丰度的特征值,其中确定所述特征值包括将所述第一多个峰与所述凸状物结构组合。

2.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

读取包括多个参考峰的参考峰列表;

将所述第一多个峰对准到所述多个参考峰。

3.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

读取包括多个参考峰的参考峰列表;

通过将所述峰形函数拟合到所述多个参考峰中的每个参考峰来确定所述质谱中的第二多个峰。

4.如权利要求1所述的方法,其中,估计所述第一背景和/或所述第二背景包括应用非对称最小二乘拟合。

5.如权利要求4所述的方法,其中,估计所述第一背景和/或所述第二背景包括应用Eilers’估计。

6.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

确定用于所述第一多个峰中的每个峰的峰幅度,其中将所述第一多个峰与所述凸状物结构组合包括:

组合所述峰幅度和所述凸状物结构的强度。

7.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

确定用于所述第一多个峰中的每个峰的峰面积,其中将所述第一多个峰与所述凸状物结构组合包括:

组合所述峰面积和所述凸状物结构的面积。

8.如权利要求1所述的方法,其中,所述峰形函数是非对称高斯。

9.如权利要求8所述的方法,其中,读取所述峰形函数包括读取所述非对称高斯的多个系数。

10.如权利要求8所述的方法,其中,确定所述第一多个峰包括:

同时并行地将所述峰形函数拟合到多个峰候选。

11.如权利要求8所述的方法,其中,确定所述第一多个峰包括:

识别多个候选峰集群;

同时并行地将所述峰形函数拟合到所述多个集群中的至少一个集群中的每个峰候选。

12.如权利要求11所述的方法,其中,识别所述多个集群包括:

选择具有彼此的预定距离内的峰中心的候选峰。

13.如权利要求12所述的方法,其中,所述预定距离是半峰宽。

14.如权利要求11所述的方法,其中,识别所述多个集群包括:

选择以大于阈值幅度彼此相交的候选峰。

15.如权利要求12所述的方法,其中,所述阈值幅度是最大幅度的预定分数。

16.如权利要求15所述的方法,其中,所述预定分数是10%。

17.如权利要求1所述的方法,其中,确定所述第一多个峰包括根据预定SNR阈值过滤候选峰。

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