[发明专利]防伪元件转印材料和用于制造防伪元件转印材料的方法在审
申请号: | 202310089848.5 | 申请日: | 2023-01-19 |
公开(公告)号: | CN116533664A | 公开(公告)日: | 2023-08-04 |
发明(设计)人: | J·斯基纳贝克;B·托伊费尔;A·劳赫;T·萨特勒 | 申请(专利权)人: | 捷德货币技术有限责任公司 |
主分类号: | B41M3/14 | 分类号: | B41M3/14;B41M3/12;B41M5/03;B41M5/42;B41M1/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 任丽荣 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防伪 元件 材料 用于 制造 方法 | ||
1.一种用于制造防伪元件转印材料(10)的方法,所述方法包括步骤:
-提供载体箔(16);
-将剥离层(22)施加到所述载体箔(16)上;
-这样部分面状区域地施加一个或多个彼此叠加的层来产生具有光学可变效果的功能层结构(70),使得所述功能层结构以外轮廓(71)完全地位于所述剥离层(22)上;并且
-将粘合剂层(50)这样施加到所述功能层结构(70)上,使得所述粘合剂层要么正好覆盖所述功能层结构(70)要么稍微突出超过所述功能层结构(70)的外轮廓(71)直到达到所述剥离层(22)。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,在施加所述剥离层(22)的步骤中,这样仅部分面状区域地施加所述剥离层(22),使得所述剥离层(22)的外轮廓(33)环绕地突出超过所述功能层结构(70)的外轮廓(71)。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,施加所述功能层结构(70)的步骤这样进行,使得所述功能层结构要么完全地位于部分面状区域的剥离层(22)上要么突出超过所述部分面状区域的剥离层(22)的内轮廓(34)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,产生所述功能层结构(70)的步骤包括施加压印层(80)和将图案压印到所述压印层(80)中。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,产生所述功能层结构(70)的步骤包括将金属化层(85)施加到被压印的图案上。
6.根据权利要求5所述的方法,所述方法包括步骤:在施加所述金属化层(85)之前将洗色层(82)这样施加到所述压印层(80)上,使得所述洗色层(82)仅部分地覆盖所述压印层(80),并且在施加所述金属化层(85)之后,去除洗色层(82)连同位于上面的金属化层(85),从而所述金属化层(85)形成至少一个花纹或符号。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,所述方法包括步骤:
-在所述载体箔(16)上这样冲压所述粘合剂层(50)和所述剥离层(22),使得形成闭合的或者中断的冲压线(55)。
8.一种防伪元件转印材料(10),所述防伪元件转印材料包括:
-载体箔(16);
-剥离层(22),所述剥离层施加到所述载体箔(16)上;
-功能层结构(70),所述功能层结构包括一个或多个彼此叠加的层并且具有光学可变效果,并且所述功能层结构以外轮廓(71)完全地位于所述剥离层上(22);和
-粘合剂层(50),所述粘合剂层这样配准地施加在所述功能层结构(70)上,使得所述粘合剂层稍微突出超过所述功能层结构(70)的外轮廓(71)直到达到所述剥离层(22)。
9.根据权利要求8所述的防伪元件转印材料,其中,所述剥离层(22)仅部分面状区域地施加在所述载体箔(16)上,并且部分面状区域的剥离层(22)的外轮廓(33)环绕地突出超过所述功能层结构(70)的外轮廓(71)。
10.根据权利要求9所述的防伪元件转印材料,其中,所述功能层结构(70)要么完全地位于所述部分面状区域的剥离层(22)上要么突出超过所述部分面状区域的剥离层(22)的内轮廓(34)。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的防伪元件转印材料,其中,所述功能层结构(70)包括压印层(80),图案被压印到所述压印层中。
12.根据权利要求11所述的防伪元件转印材料,其中,所述功能层结构(70)包括邻接于被压印的图案的金属化层(85)。
13.根据权利要求12所述的防伪元件转印材料,其中,所述金属化层(85)仅部分地覆盖所述压印层(80),并且形成至少一个花纹或符号。
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