[发明专利]一种应用于集成电路设备的晶圆旋转装置在审

专利信息
申请号: 202310091122.5 申请日: 2023-02-09
公开(公告)号: CN115939021A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 于小杰;刘闻敏 申请(专利权)人: 盛吉盛半导体科技(北京)有限公司
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 赵景焕
地址: 100176 北京市大兴区北京经*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 集成电路 设备 旋转 装置
【权利要求书】:

1.一种应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述集成电路设备中包括有腔室(1)、呈圆筒状的操作台(2)和晶圆旋转装置(3),所述腔室(1)和所述操作台(2)不可旋转;

所述操作台(2)为上小下大的阶梯分段圆筒状,包括有自上而下依次相连的操作台板(11)、第一圆筒段(12)、环形台阶(13)和第二圆筒段(14);

所述晶圆旋转装置(3)包括在所述操作台(2)外侧由内而外依次同轴地套设的支撑筒(4)、内套筒(5)及旋转筒(6);所述内套筒(5)及所述支撑筒(4)位于所述第一圆筒段(12)外;所述旋转筒(6)位于所述内套筒(5)及所述第二圆筒段(14)外;所述内套筒(5)的上端与所述腔室(1)的底部相连接;所述旋转筒(6)内侧面中部向内延伸有环形板(7),所述环形板(7)位于所述内套筒(5)和所述环形台阶(13)之间;所述环形板(7)与所述支撑筒(4)的下端相连接;所述旋转筒(6)的上端与所述内套筒(5)之间通过上轴承(8)转动连接,所述旋转筒(6)的下端与所述第二圆筒段(14)之间通过下轴承(9)转动连接,所述上轴承(8)与所述环形板(7)之间,以及所述下轴承(9)与所述环形板(7)之间,均设置有磁流体密封组件(10);所述旋转筒(6)连接有用于控制其旋转的驱动组件。

2.如权利要求1所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述操作台(2)的所述操作台板(11)上开设有若干允许顶针通过的通孔,所述操作台板(11)的下表面在与所述通孔对应位置处连接有晶圆升降装置,所述晶圆升降装置包括有所述顶针及控制所述顶针升降的机构,多个所述顶针的上端共同在所述操作台板(11)的上方支撑晶圆。

3.如权利要求1所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述内套筒(5)下段的外侧面与所述第二圆筒段(14)的外侧面直径相同且位置相对齐。

4.如权利要求1所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,每一个所述磁流体密封组件(10)均包括有自上而下依次相连的上磁极环(15)、磁环(16)和下磁极环(17);

所述上磁极环(15)和所述下磁极环(17)在朝外的侧面均设置有密封圈(19),所述密封圈(19)与所述旋转筒(6)相抵触;所述上磁极环(15)和所述下磁极环(17)在朝内的侧面均设置有磁流体(18);

所述上轴承(8)的轴承外圈与其下方相邻的上磁极环(15)之间,以及所述下轴承(9)的轴承外圈与其上方相邻的下磁极环(17)之间,均设置有隔环(20)。

5.如权利要求4所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述内套筒(5)及所述第二圆筒段(14)在与所述上磁极环(15)和所述下磁极环(17)相对的位置均设有若干层环形凹槽(21),相邻所述环形凹槽(21)之间形成环形突起(22),所述磁流体(18)位于所述环形突起(22)外侧面与所述上磁极环(15)、所述下磁极环(17)的内侧面之间。

6.如权利要求1-5中任意一项所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述内套筒(5)为法兰筒,其上方为上法兰部(23);所述操作台(2)下端向外延伸设置有下法兰部(24);所述上法兰部(23)和所述下法兰部(24)之间设置有若干连接支柱(25)。

7.如权利要求6所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述连接支柱(25)的上、下两端分别与所述上法兰部(23)和所述下法兰部(24)通过螺丝连接。

8.如权利要求1-5中任意一项所述的应用于集成电路设备的晶圆旋转装置,其特征在于,所述支撑筒(4)的下端设置有定位凸起(26),所述环形板(7)的上表面设置有定位凹槽(27),所述定位凸起(26)与所述定位凹槽(27)相配合地插接。

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