[发明专利]一种基于条件数的纳米结构散射测量配置优化方法及系统在审
申请号: | 202310094923.7 | 申请日: | 2023-01-18 |
公开(公告)号: | CN116068865A | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 陈修国;杨天娟;张家豪;刘硕;刘世元;李仲禹 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G06F30/23;G06F17/16;G06F17/11;G16C60/00;G06F111/14 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李晓飞 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 件数 纳米 结构 散射 测量 配置 优化 方法 系统 | ||
1.一种基于条件数的纳米结构测量配置优化方法,其特征在于,包括:
步骤S1、确定纳米结构的待测形貌参数x以及散射测量的参数提取过程中固定不变的参数a;
步骤S2、基于所述待测形貌参数x和所述固定不变的参数a,构建散射测量中衡量测量信号和理论信号之间拟合误差的评价函数;
步骤S3、基于所述评价函数,得到所述待测形貌参数的误差传递矩阵;
步骤S4、计算在不同的测量条件下,所述待测形貌参数的误差传递矩阵的条件数,条件数最小的测量条件即为最优配置。
2.根据权利要求1所述的测量配置优化方法,其特征在于,步骤S3中,基于所述评价函数,得到所述待测形貌参数的误差传递矩阵,包括:
计算所述理论信号对所述待测形貌参数x的一阶Taylor展开式;
将所述一阶Taylor展开式代入所述评价函数,得到所述待测形貌参数的误差传递矩阵。
3.根据权利要求1或2所述的测量配置优化方法,其特征在于,所述待测形貌参数的误差传递矩阵为:
其中,Jx为N×M阶Jacobian矩阵,元素定义为:
f(x,a)为测量信号对应的理论信号,x*为最终提取的待测形貌参数值,W为由权值因子构成的N×N阶对角矩阵,表示Jx的转置矩阵。
4.根据权利要求3所述的测量配置优化方法,其特征在于,通过下述优化方法得到条件数最小的测量条件:
其中,α1opt,α2opt,…,αkopt表示条件数最小的测量条件配置,α1,α2,…,αk分别表示不同的测量条件,A1,A2,…,Ak分别表示不同的测量条件对应的变化范围,Ω为待测相貌参数范围,cond(.)表示条件数计算算子。
5.根据权利要求2所述的测量配置优化方法,其特征在于,通过解析、数值建模或者代理模型方法计算所述理论信号对所述待测形貌参数x的一阶Taylor展开式。
6.根据权利要求1所述的测量配置优化方法,其特征在于,步骤S2中,所述评价函数为:
其中,y=[y1,y2,…,yN]表示所述测量信号,f(x,a)=[f1(x,a),f1(x,a),…,fN(x,a)]为所述测量信号对应的理论信号,W为由权值因子构成的N×N阶对角矩阵,x=[x1,x2,...,xM]T表示所述待测形貌参数,a=[a1,a2,...,aL]T表示所述固定不变的参数。
7.根据权利要求1所述的测量配置优化方法,其特征在于,步骤S4中,所述测量条件包括:测量入射角θ、方位角测量波长λ和偏振角Ψ中的一个或多个的任意组合。
8.根据权利要求1所述的测量配置优化方法,其特征在于,步骤S4中,所述待测形貌参数的误差传递矩阵的条件数包括:1-条件数、2-条件数、∞-条件数或Frobenius范数的条件数。
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