[发明专利]一种原位生成抗腐蚀耐磨高熵陶瓷涂层的方法

权利要求书

1.一种原位生成抗腐蚀耐磨高熵陶瓷涂层的方法，包括如下步骤：

(1)用喷雾干燥法将稀土氧化物和无定型硼粉混合物团聚成球形或近球形，得到团聚颗粒；随后对团聚颗粒进行预热；

(2)对需要原位生成高熵陶瓷涂层区域的镁合金进行喷砂处理，随后对喷砂处理后的镁合金进行预热；

(3)采用等离子喷涂的方法将步骤(1)中的团聚颗粒喷涂在步骤(2)中的镁合金表面，实现在镁合金表面原位生成抗腐蚀耐磨损高熵陶瓷涂层；其中，所述等离子喷涂的工艺参数为：喷涂角度45-90度，喷涂距离80-200mm，喷嘴移动速度50-150mm/min，送粉量500-2000g/h。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)中的稀土氧化物和无定型硼粉的颗粒度为2-20μm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)中的团聚颗粒的颗粒度为30-100μm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(1)中的预热温度为50-100℃，保温20-90分钟。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(2)中的喷砂处理后的镁合金表面粗超度介于Ra1.6和Ra25之间。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(2)中的预热温度为50-150℃，保温20-90分钟。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤(3)中的高熵陶瓷涂层为稀土十二硼化物高熵陶瓷涂层。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：所述稀土十二硼化物高熵陶瓷涂层的化学式为(A_aB_bC_cD_dE_e)B₁₂；其中，A、B、C、D、E为稀土元素中的至少五种；a、b、c、d和e均在0.05～0.35之间，且a+b+c+d+e＝1。