[发明专利]光学滤波器在审
| 申请号： | 202310148367.7 | 申请日： | 2023-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN116609872A | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 高星英明;藤原晃男;竹本和矢;河合启介 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G01S7/481;G01S17/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 滤波器 | ||
1.一种光学滤波器，具备基材和作为最外层层叠于所述基材的至少一个主面侧的电介质多层膜，
所述电介质多层膜为低折射率膜与高折射率膜层叠而成的层叠体，
所述低折射率膜和所述高折射率膜中的任一者满足下述光谱特性(i－1)和(i－2)，
所述光学滤波器满足所有下述光谱特性(ii－1)～(ii－3)，
所述高折射率膜为硅膜，所述硅膜的氧浓度的最小值为7～30atm％，(i－1)波长600nm处的消光系数k600为0.12以上，
(i－2)800～1570nm的波长区域的最小消光系数k800－1570MIN为0.01以下，
(ii－1)400～680nm的波长区域的入射角0度时的最大透射率T400－680(0deg)MAX为6％以下，
(ii－2)400～680nm的波长区域的入射角5度时的最大反射率R400－680(5deg)MAX为20％以下，
(ii－3)X～Ynm的波长区域的入射角0度时的平均透射率TX－Y(0deg)AVE为90％以上，其中，X＝800～1530nm，Y＝850～1580nm，Y－X＝50nm。
2.一种光学滤波器，具备基材和作为最外层层叠于所述基材的至少一个主面侧的电介质多层膜，
所述电介质多层膜是低折射率膜与高折射率膜层叠而成的层叠体，
所述低折射率膜和所述高折射率膜中的任一者的自旋密度为5.0×1010(个/nm*cm2)以上，
所述光学滤波器满足所有下述光谱特性(ii－1)～(ii－3)，
所述高折射率膜为硅膜，所述硅膜的氧浓度的最小值为7～30atm％，(i－1)波长600nm处的消光系数k600为0.12以上，
(i－2)800～1570nm的波长区域的最小消光系数k800－1570MIN为0.01以下，
(ii－1)400～680nm的波长区域的入射角0度时的最大透射率T400－680(0deg)MAX为6％以下，
(ii－2)400～680nm的波长区域的入射角5度时的最大反射率R400－680(5deg)MAX为20％以下，
(ii－3)X～Ynm的波长区域的入射角0度时的平均透射率TX－Y(0deg)AVE为90％以上，其中，X＝800～1530nm，Y＝850～1580nm，Y－X＝50nm。
3.根据权利要求1或2所述的光学滤波器，其中，进一步满足下述光谱特性(ii－4)，
(ii－4)光反射率Y为5％以下。
4.根据权利要求1或2所述的光学滤波器，其中，进一步满足下述光谱特性(ii－3A)，
(ii－3A)1525～1575nm的波长区域的入射角0°时的平均透射率T1525－1575(0deg)AVE为90％以上。
5.根据权利要求1或2所述的光学滤波器，其中，所述电介质多层膜的总膜厚为3.0μm以下。
6.根据权利要求1或2所述的光学滤波器，其中，所述低折射率膜为氧化硅膜。
7.一种LiDAR传感器，具备权利要求1或2所述的光学滤波器。
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