[发明专利]一种原位自生Al2

权利要求书

1.一种原位自生Al₂O₃增强高熵合金涂层，其特征在于：所述涂层由以下原料制备得到，所述原料包括以下质量百分数比的合金粉末：Al：9.5～16.5％、Ti：4～18％、V：15.5～19％、Cr：16～19.5％、Nb：29～34.5％、TiO₂：0.5～18％。

2.根据权利要求1所述原位自生Al₂O₃增强高熵合金涂层，其特征在于：所述的高熵合金粉末Al、Ti、V、Cr、Nb粒径范围为10～52μm，TiO₂金属粉末粒径范围为100～200nm。

3.权利要求1所述原位自生Al₂O₃增强高熵合金涂层制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

(1)对基材进行表面预处理：

(2)按照比例称量AlTiVCrNb-TiO₂高熵合金粉末，称量完毕后使用真空球磨机进行机械混合；

(3)将球磨后的粉末预置在TC4基体表面形成预置层，采用光纤激光器将激光头垂直于待熔覆表面，在氦气的保护下进行激光熔覆试验，制备出AlTiVCrNb-TiO₂高熵合金涂层。

4.根据权利要求3所述原位自生Al₂O₃增强高熵合金涂层制备方法，其特征在于：预处理为：采用200目、400目、600目砂纸打磨，清洗，干燥后备用。

5.根据权利要求3所述原位自生Al₂O₃增强高熵合金涂层制备方法，其特征在于：所述步骤(2)真空球磨机参数为：转速120rpm，球料比4:1，球磨时间1h。

6.根据权利要求3所述原位自生Al₂O₃增强高熵合金涂层制备方法，其特征在于：激光熔覆的激光功率为1800W，扫描速度为600mm/min，光斑直径为4mm，保护气体为氦气，其气体流量为10L/min。