[发明专利]一种聚砜类聚合物的低聚物去除装置及其去除方法

权利要求书

1.一种聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，包括用于进行聚合反应的反应釜以及溶剂回收机构，所述反应釜顶部通过导料管与所述溶剂回收机构连通，所述导料管伸入所述反应釜内，所述导料管的端口靠近所述反应釜的聚合液面设置，且位于所述反应釜的聚合液面上方，所述反应釜上开设有用于在聚合完成后加入去除低聚物溶剂的第一加料口，所述反应釜顶部设置有用于将蒸发的溶剂冷凝的冷凝器。

2.根据权利要求1所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述导料管位于所述反应釜内的端口向下设置。

3.根据权利要求2所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述反应釜的顶部连接有用于供入氮气的第一氮气管，或者所述溶剂回收机构内设置有真空泵。

4.根据权利要求3所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述反应釜的顶部连接有用于排出气体的第一排空管。

5.根据权利要求1所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述冷凝器为呈U型的冷凝管，所述冷凝管的两端分别与所述反应釜的顶端相连通。

6.根据权利要求4所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述冷凝管外设有流通冷却水的冷却管路。

7.根据权利要求1所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述导料管上设置有阀门。

8.根据权利要求1所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述反应釜内设置有第一搅拌器。

9.根据权利要求1所述的聚砜类聚合物的低聚物去除装置，其特征在于，所述溶剂回收机构为溶剂回收釜，所述导料管与所述溶剂回收釜的顶端连接，所述溶剂回收釜的顶端设置有用于供入氮气的第二氮气管、用于排出气体的第二排空管以及第二加料口，且所述溶剂回收釜内设置有第二搅拌器。

10.一种聚砜类聚合物的低聚物去除装置的去除方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：将聚合反应材料加入反应釜内进行聚合反应，启动第一搅拌器；

S2：聚合反应完成后，保持第一搅拌器处于运转状态，将用于去除低聚物的溶剂加入至反应釜内，溶剂沸点低于聚合温度，溶剂在沸腾的状态下与聚合物混合；

S3：溶剂蒸发产生的气态溶剂进入冷凝管内降温重新变为液态，并回流至反应釜内继续与聚合物混合；

S4：溶剂与聚合物混合并溶解低聚物后，停止第一搅拌器，待聚合物与溶剂静置分层后，通过第一氮气管加压或启动真空泵的方式将溶剂导入溶剂回收釜内。