[发明专利]一种相位调制莫尔成像器件

权利要求书

1.一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：包括，

间隔层，其具有相对设置的第一表面和第二表面，入射光由所述第一表面射入，经过第二表面射出，经过反射后，由第二表面入射，再由所述第一表面射出；

透射单元，其设置在所述第一表面，所述透射单元包括第一微聚焦单元，所述第一微聚焦单元包括多个第一微聚焦元件；

反射单元，其设置在所述第二表面，所述反射单元包括第二微聚焦单元，所述第二微聚焦单元包括多个第二微聚焦元件，多个所述第一微聚焦元件在所述间隔层的投影与多个所述第二微聚焦元件在所述间隔层的投影具有相对偏移，所述第二微聚焦元件的表面设有反射层，图文信息编码于所述多个所述第二微聚焦元件；

通过所述透射单元观测所述图文信息，获得随视角变化而变化的具有立体感的物体影像。

2.根据权利要求1所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述第一微聚焦元件和第二微聚焦元件包括线状微聚焦元件，多个所述第一微聚焦元件呈阵列排布，多个所述第二微聚焦元件呈阵列排布。

3.根据权利要求2所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述线状微聚焦元件包括一维直线柱面透镜或者一维Fresnel柱面透镜。

4.根据权利要求2所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述第一微聚焦元件在所述间隔层的投影的长宽比大于5:1，所述第二微聚焦元件在所述间隔层的投影的长宽比大于5:1。

5.根据权利要求1所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述第一微聚焦元件和第二微聚焦元件包括二维微聚焦元件，多个所述第一微聚焦元件的排列方式包括二维周期型、非周期型、随机型及他们的组合。

6.根据权利要求5所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述二维微聚焦元件包括圆包型微透镜。

7.根据权利要求6所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述第一微聚焦元件和第二微聚焦元件在间隔层的投影为直径比小于2：1的圆形。

8.根据权利要求1所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述间隔层的厚度在第一微聚焦元件的焦距与第二反射微聚焦元件的焦距之和的±30％以内。

9.根据权利要求1所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述间隔层包括多个复合而成的层结构，所述层结构的材质包括PMMA和PET、PMMA、或PET、PMMA、PC、PI、PE、玻璃中的至少两种。

10.根据权利要求1所述的一种相位调制莫尔成像器件，其特征在于：所述反射层包括金属或非金属材料的光学薄膜，所述反射层的厚度为20nm至100nm。