[发明专利]一种磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法在审

专利信息
申请号: 202310221478.6 申请日: 2023-03-09
公开(公告)号: CN116110794A 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 钮伟;胡洪萁;普勇 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L29/16;H01L29/423;H01L29/40;H01L29/51
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 张玉红
地址: 210023*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁性 离子 凝胶 薄膜 石墨 场效应 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤1:制备金属电极:利用光刻胶在硅衬底根据所需电极图案进行曝光、显影、定影;蒸镀Ti/Au金属层,获得带有目标图案的金属电极;

步骤2:转移样品:制备标准的石墨烯样品,利用转移平台将石墨烯转移至带有金属电极的硅衬底上;

步骤3: 制备磁性离子凝胶栅介石墨烯场效应管:先制备磁性离子凝胶薄膜,切割放至于步骤2中的带有金属电极的硅衬底上。

2.根据权利要求1所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:所述步骤1具体包括以下步骤:

步骤1.1:将硅片依次在丙酮、乙醇中通过超声清洗,随后用氮气吹干,将洗净后的硅片吸附在匀胶机上,依次旋涂上光刻胶MMA EL6和PMMA A5,并在加热平台上烘干;

步骤1.2:将烘干后附有光刻胶的硅片放至电子束曝光机的腔体中,利用电子束轰击带有光刻胶的硅片,获得带有目标电极图案的硅片;

步骤1.3:将曝光后的硅片放至显影液中清除掉曝光后的光刻胶,然后将硅片放至异丙醇中完成定影,最后用氮气吹干;

步骤1.4:将吹干后的硅片放至电子束蒸镀系统的腔体中,抽真空,然后依次蒸镀钛、金;

步骤1.5:将蒸镀好的硅片放至丙酮溶液中静置,剥离掉未经过曝光的部分,剩余部分即为所需金属电极。

3.根据权利要求1所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:所述步骤2具体包括以下步骤:

步骤2.1:块材石墨烯经过胶带反复粘贴并用PDMS薄膜与胶带贴合,随后将PDMS上粘有石墨烯的一面贴合在洗净后的硅片上,筛选出符合器件制备的石墨烯样品;

步骤2.2:将筛选出的石墨烯样品、制备好的金属电极放置于转移平台上固定,将石墨烯样品黏贴到PVA上,然后将石墨烯样品转移至金属电极沟道处;

步骤2.3:将转移好的样品放至去离子水中,完全浸泡并静置去除PVA,最后用氮气将其吹干。

4.根据权利要求1所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:所述制备磁性离子凝胶薄膜的方法为:

步骤3.1:将磁性离子液体、聚偏二氟乙烯-六氟丙烯、丙酮溶剂加热搅拌至聚合物充分溶解,待丙酮挥发后得到磁性离子凝胶溶液;

步骤3.2:将干净的基底吸附在匀胶机上,并将磁性离子凝胶溶液滴铸在基底上匀胶,得到旋涂有磁性离子凝胶溶液的基底;放置于真空烤箱中进行烘烤以去除水分和多余的丙酮。

5.根据权利要求2所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:所述步骤1.1中,匀胶机转速采取分步设置方式,第一步转速4000转/分钟,旋转时间为33s,随后7000转/分钟,旋转时间为8s。

6.根据权利要求2所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:所述步骤1.3中,显影时间为35s,定影时间为10s。

7.根据权利要求2所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方法,其特征在于:所述步骤1.4中,蒸镀钛的速率为0.15Å/s,厚度5nm,金的速率为0.5Å/s,厚度20nm。

8.根据权利要求4所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方案,其特征在于:所述步骤3.1中,磁性离子液体为1-丁基-3-甲基咪唑四氯化铁BMIM[FeCl4]。

9.根据权利要求4所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方案,其特征在于:所述步骤3.1中,磁性离子凝胶薄膜的制备所需磁性离子液体、聚合物、丙酮溶剂的质量比为4:0.9:10,加热搅拌的温度为70℃,速率600转/分钟。

10.根据权利要求4所述磁性离子凝胶薄膜栅介石墨烯场效应管的制备方案,其特征在于:所述步骤3.2中,烘烤温度为120℃时间40分钟。

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