[发明专利]蚀刻液组合物、制备方法及蚀刻方法在审
申请号: | 202310244466.5 | 申请日: | 2023-03-14 |
公开(公告)号: | CN116162934A | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 王元元;胡青华;蔡洁;张兵;向文胜;赵建龙;杜冰 | 申请(专利权)人: | 艾森半导体材料(南通)有限公司 |
主分类号: | C23F1/18 | 分类号: | C23F1/18;H01L21/3213 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 张家蕊 |
地址: | 226000 江苏省南通市开发区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 组合 制备 方法 | ||
1.一种蚀刻液组合物,其特征在于,所述蚀刻液组合物包括基液A和浓缩液B,所述基液A的制备原料按质量百分比计,包括:过氧化氢1%-15%、无机酸5%-25%、稳定剂0.005%-5%和余量水,所述浓缩液B由缓蚀剂、络合剂和表面活性剂以质量比20-35:30-42:30-42混合制成,并且所述浓缩液B在所述蚀刻液组合物中的添加质量浓度为0.001%-10%。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述浓缩液B通过以下方法制备得到:通氮气的环境下,将所述缓蚀剂溶于溶剂中充分搅拌溶解0.5-1h,转速为800-900cps,完全溶解之后分批加入所述络合剂,待混合溶液完全透明,加入所述表面活性剂,转速调至300-400cps,搅拌0.5-1h,温度升至60-85℃,搅拌2-4h蒸发掉残留的溶剂,冷却至室温即得。
3.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述缓蚀剂包括聚乙二醇-400、聚乙二醇-6000、聚乙二醇-10000、乙醇胺、三乙醇胺、甲基咪唑、2-甲基咪唑、苯并三氮唑、2-氨基咪唑、4-氨基咪唑、5-苯基四氮唑、1H-四氮唑、5-巯基-1-苯基-四氮唑和N-乙烯基咪唑中的至少一种。
4.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述络合剂包括酒石酸、柠檬酸钠、乙二胺四乙酸二钠、亚氨基二琥珀酸四钠、琥珀酸二钠、乙二胺四甲叉磷酸五钠盐、乙二胺四亚甲基膦酸钠和N,N,N'N'-四(2-羟丙基)乙二胺中的至少一种。
5.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述表面活性剂包括十二烷基苯磺酸钠、烷基萘磺酸钠、月桂剂磺化琥珀酸单酯二钠、十碳醇聚氧乙烯醚、十三碳异构醇醚和蓖麻油聚氧乙烯醚系列中的至少一种。
6.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述溶剂包括乙醇、甲醇、异丙醇、乙酸乙酯和丙酮中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述浓缩液B在所述蚀刻液组合物中的添加量为0.2%-10%,优选为0.5%-8%,更优选为0.8%-6%;
优选地,每100克浓缩液B中缓蚀剂:络合剂:表面活性剂质量比为28:36:36,其中,所述缓蚀剂选自5-巯基-1-苯基-四氮唑;所述络合剂选自乙二胺四乙酸二钠;所述表面活性剂选自十碳醇聚氧乙烯醚。
8.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物,其特征在于,所述无机酸包括甲酸、乙酸、柠檬酸、甲基磺酸、次氯酸碳酸、磷酸、硫酸、盐酸、硝酸和硼酸中的至少一种,所述稳定剂包括羟基乙叉二膦酸、苯基羰酰二胺、对氨基苯基羰酰二胺、聚丙烯酸胺、对羟基苯磺酸钠、对氨基苯基羰酰二胺、对羟基苯磺酸和吡啶二羧酸中的至少一种。
9.一种根据权利要求1-8中任一项所述的蚀刻液组合物的制备方法,其特征在于,其包括:将过氧化氢、无机酸、稳定剂和水混合制得基液A,然后将所述基液A与所述浓缩液B混合,制得所述蚀刻液组合物。
10.一种蚀刻方法,其特征在于,包含:使含铜金属层与权利要求1-8中任一项所述的所述蚀刻液组合物接触。
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