[发明专利]一种溅射靶材的清洗方法在审
| 申请号： | 202310255626.6 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116219440A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;张萍萍 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 徐浩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 清洗 方法 | ||
1.一种溅射靶材的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步骤：
真空条件下，干式等离子清洗溅射靶材；
所述干式等离子清洗所用清洁气体包括氧气与氩气的混合气体。
2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述混合气体中氧气的体积分数≤30％。
3.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述混合气体中氧气的体积分数为10-30％。
4.根据权利要求1-3任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述清洁气体的流量为300-600sccm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述真空条件的绝对压力为1-100Pa。
6.根据权利要求1-5任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述干式等离子清洗的功率为500-700w。
7.根据权利要求6所述的清洗方法，其特征在于，所述干式等离子清洗采用脉冲电源；
优选地，所述脉冲电源的频率为20-30kHz。
8.根据权利要求6或7所述的清洗方法，其特征在于，所述干式等离子清洗的时间为80-100s。
9.根据权利要求1-8任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述溅射靶材包括金属靶材；
优选地，所述金属靶材包括铜靶材、铜合金靶材、铝靶材、铝合金靶材、钛靶材、钛合金靶材、钼靶材或钼合金靶材中的任意一种或至少两种的组合。
10.根据权利要求1-9任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步骤：
绝对压力为1-100Pa的真空条件下，使用频率为20-30kHz的脉冲电源干式等离子清洗溅射靶材80-100s；所述干式等离子清洗的功率为500-700w；
所述干式等离子清洗所用清洁气体包括氧气与氩气的混合气体，其中氧气的体积分数≤30％；所述清洁气体的流量为300-600sccm；
所述溅射靶材包括铜靶材、铜合金靶材、铝靶材、铝合金靶材、钛靶材、钛合金靶材、钼靶材或钼合金靶材中的任意一种或至少两种的组合。
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