[发明专利]特效处理方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种特效处理方法，其特征在于，包括：

响应于特效触发操作，获取待处理的原始图像；

在所述原始图像中存在预设图像主体的情况下，对所述预设图像主体中的待处理区域进行特效处理，得到特效区域；

在存在两个或两个以上所述特效区域的情况下，基于预设的特效形态对至少一个所述特效区域的区域显示位置进行调整，得到呈所述特效形态的特效主体；

确定与所述特效主体对应的背景图像，将所述特效主体显示于所述背景图像中，得到特效图像。

2.根据权利要求1所述的特效处理方法，其特征在于，所述待处理区域包括第一主体区域，所述对所述预设图像主体中的待处理区域进行特效处理，得到特效区域，包括：

确定所述预设图像主体中的第一主体区域，并确定所述第一主体区域对应的至少两个区域关键点和第一区域掩膜；

基于至少两个所述区域关键点和所述第一区域掩膜对所述第一主体区域进行特效处理，得到所述第一主体区域对应的特效区域。

3.根据权利要求2所述的特效处理方法，其特征在于，所述基于至少两个所述区域关键点和所述第一区域掩膜对所述第一主体区域进行特效处理，得到所述第一主体区域对应的特效区域，包括：

针对所述第一区域掩膜中的每个待处理像素点，基于至少两个所述区域关键点确定所述第一区域掩膜中与所述待处理像素点对应的目标采样点；

基于所述待处理像素点、所述目标采样点、所述第一区域掩膜和所述原始图像，确定所述第一主体区域对应的特效区域。

4.根据权利要求3所述的特效处理方法，其特征在于，所述基于至少两个所述区域关键点确定所述第一区域掩膜中与所述待处理像素点对应的目标采样点，包括：

基于至少两个所述区域关键点确定所述第一区域掩膜中与每个所述待处理像素点对应的采样参考点；

基于所述待处理像素点与所述采样参考点，确定所述第一区域掩膜中与所述待处理像素点对应的目标采样点。

5.根据权利要求4所述的特效处理方法，其特征在于，所述基于至少两个所述区域关键点确定所述第一区域掩膜中与每个所述待处理像素点对应的采样参考点，包括：

基于至少两个所述区域关键点确定与所述第一主体区域对应的区域参考线；

基于所述区域参考线确定与所述待处理像素点对应的采样参考点。

6.根据权利要求5所述的特效处理方法，其特征在于，所述基于所述区域参考线分别确定与所述待处理像素点对应的采样参考点，包括：

将所述区域参考线上与所述待处理像素点距离最近的点，作为与所述待处理像素点对应的采样参考点。

7.根据权利要求4所述的特效处理方法，其特征在于，所述基于所述待处理像素点与所述采样参考点，确定所述第一区域掩膜中与所述待处理像素点对应的目标采样点，包括：

构建从所述待处理像素点指向所述采样参考点之间的向量，作为参考向量；

基于所述参考向量确定所述第一区域掩膜中与所述待处理像素点对应的目标采样点。

8.根据权利要求3所述的特效处理方法，其特征在于，所述基于所述待处理像素点、所述目标采样点、所述第一区域掩膜和所述原始图像，确定所述第一主体区域对应的特效区域，包括：

将与所述待处理像素点对应的所述目标采样点在所述第一区域掩膜中的像素值，更新为所述待处理像素点的采样像素值；

基于至少两个所述区域关键点，确定所述第一区域掩膜中与所述第一主体区域对应的特效掩膜区域；

基于所述特效掩膜区域中每个所述待处理像素点的采样像素值和所述原始图像，确定所述第一主体区域对应的特效区域。