[发明专利]一种逐层创建数字化三维地质模型方法及应用系统有效

专利信息
申请号: 202310279932.3 申请日: 2023-03-22
公开(公告)号: CN116071515B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 石晓敬;崔年治;黄琨;李萌;曾艳;王云飞;胡海洋;杨国平;高晓军 申请(专利权)人: 北京理正软件股份有限公司
主分类号: G06T17/05 分类号: G06T17/05;G06T17/20;G06F30/13
代理公司: 北京中建联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11004 代理人: 赵传军;周禹希
地址: 100044 北京市西城*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 创建 数字化 三维 地质模型 方法 应用 系统
【权利要求书】:

1.一种逐层创建数字化三维地质模型方法,其特征在于,具体步骤如下:

S1、获取数字化的多源勘察数据;

S2、创建地表地形面和DTM体;

S3、设置DTM体为基准体,从上至下对所有地层进行排序,取未建模且序号最小的地层为待建模地层;

S4、分析待建模地层是否为最下地层:如果是,则跳转至S8;如果不是,则进行S5;

S5、分析待建模地层在基准体顶部的实际出露,确定地层平面范围边界线;

对于S5中确定地层平面范围边界线,具体的步骤如下:

S51、显示钻孔在基准体顶部的出露情况:以不同颜色标记钻孔出露点、钻孔不出露点和钻孔出露状态未知点;

S52、显示剖面在基准体顶部的实际出露:显示剖面中待建模地层的层线,并标记层线在顶部尖灭具体位置;

S53、计算形成地层平面范围边界线:设置钻孔出露点、钻孔不出露点、剖线节点为地层状态点集合P1,分析P1的二维平面几何分布范围形态,呈现点、线、面3种形态之一;如呈点状分布,则设置地形平面范围边界线为地层平面范围边界线;如呈线状分布,根据P1将线拆分为出露线段和不出露线段,此时从出露线段的端点引垂线,并设置地形平面范围内的垂线部分为地层平面范围边界线;如呈面状分布,基于P1进行Delaunay构网和状态分析,形成各三角形均标记地层状态的三角网M1,设置地形平面范围线节点、钻孔出露状态未知点、待构网节点为点集合P2,依据三角网M1进行地层状态推算得到P2中各点的地层状态,然后取P1和P2的合集形成点集合P3,基于P3进行Delaunay构网和状态分析,形成各三角形均标记地层状态的三角网M2,从三角网M2中提取地层状态标记为出露的三角网子区域集合,设置各子区域的边界线为地层平面范围边界线;

S54、显示平面在基准体顶部的实际出露:显示为地层平面范围边界线;

S55、允许人工干预调整地层平面范围边界线;

S6、根据地层平面范围边界线和地层勘察数据,创建生成待建模地层的三维体;

S7、在基准体上剥离地层的三维体,设置剥离剩余部分为基准体,而后再跳转至S4;

S8、设置基准体为最下地层的三维体。

2.如权利要求1所述的一种逐层创建数字化三维地质模型方法,其特征在于,对于S1中获取数字化的多源勘察数据包含钻孔数据、地质剖面图、地质平面图、地质平切图、高程测量点数据、等高线及DEM数据;将上述多源勘察数据构建三维地质数据库,通过数据处理系统和数字化勘察三维地质建模系统处理。

3.如权利要求1所述的一种逐层创建数字化三维地质模型方法,其特征在于,对于S2中创建地表地形面和DTM体,具体步骤如下:

S21、获取建模平面范围:包含人工交互范围,根据地形数据自动计算凸包范围方式获得;

S22、获取建模平面范围内的地形数据:包含等高线、高程测量点、钻孔孔口、剖面图地面线和DEM数据中的一种或几种的地形数据;

S23、获取地形建模参数:参数包含空间插值方法的种类、网格间距大小的数值、选择是否自动优化网格质量以及DTM体底高程或厚度的数值;

S24、插值计算平面范围线高程:插值计算支持克里金插值、样条插值、自然领域插值、径向基函数插值、距离反比插值中的一种或几种的空间插值方法;

S25、选择是否生成光滑加密地形,如选择是,则生成光滑加密点数据而后进行下一步;如选择不是,则不生成光滑加密点数据直接进行下一步;

S26、创建生成地表地形曲面;

S27、创建生成DTM体三维模型。

4.如权利要求2所述的一种逐层创建数字化三维地质模型方法,其特征在于,对于S3中的地层进行排序,具体步骤如下:

S31、分析钻孔中各地层的空间位置关系;

S32、分析剖面图中各地层的空间位置关系;

S33、系统自动对地层进行上下排序;

S34、允许人工干预调整地层排序。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理正软件股份有限公司,未经北京理正软件股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310279932.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top