[发明专利]电子束控制装置及方法

权利要求书

1.一种电子束控制装置，其特征在于，应用于扫描电子显微镜，包括：第一生成组件和第二生成组件；其中，

所述第一生成组件，用于生成第一强度和/或第一方向的第一磁场，以调整穿过所述第一生成组件的所述扫描电子显微镜的发射组件发射的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第一聚焦组件的磁轴重合；

所述第二生成组件，用于生成第二强度和/或第二方向的第二磁场，以调整穿过所述第二生成组件的来自所述第一生成组件的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第二聚焦组件的磁轴重合。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一生成组件，包括：第一生成子组件和第二生成子组件；其中，

所述第一生成子组件，用于生成第三强度和/或第三方向的第三磁场，以调整穿过所述第一生成子组件的所述发射组件发射的电子束的偏转角度；

所述第二生成子组件，用于生成第四强度和/或第四方向的第四磁场，以调整穿过所述第二生成子组件的来自所述第一生成子组件的电子束的位移。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二生成子组件，包括：第三生成子组件和第四生成子组件；其中，

所述第三生成子组件，用于生成第五强度和/或第五方向的第五磁场，以调整穿过所述第三生成子组件的来自所述第一生成子组件的电子束的偏转角度；

所述第四生成子组件，用于生成第六强度和/或第六方向的第六磁场，以调整穿过所述第四生成子组件的来自所述第三生成子组件的电子束的偏转角度；其中，所述第五磁场与所述第六磁场的强度相同，且方向相反。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一聚焦组件具有中空结构，所述第一生成子组件设置在所述第一聚焦组件的中空结构内。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二生成组件，包括：第五生成子组件和第六生成子组件；其中，

所述第五生成子组件，用于生成第七强度和/或第七方向的第七磁场，以调整穿过所述第五生成子组件的来自所述第一生成组件的电子束的位移；

所述第六生成子组件，用于生成第八强度和/或第八方向的第八磁场，以调整穿过所述第六生成子组件的来自所述第五生成子组件的电子束的偏转角度。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第五生成子组件，包括：第七生成子组件和第八生成子组件；其中，

所述第七生成子组件，用于生成第九强度和/或第九方向的第九磁场，以调整穿过所述第七生成子组件的来自所述第一生成组件的电子束的偏转角度；

所述第八生成子组件，用于生成第十强度和/或第十方向的第十磁场，以调整穿过所述第八生成子组件的来自所述第七生成子组件的电子束的偏转角度；其中，所述第九磁场与所述第十磁场的强度相同，且方向相反。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第二聚焦组件具有中空结构，所述第六生成子组件设置在所述第二聚焦组件的中空结构内。

8.一种电子束控制方法，其特征在于，应用于扫描电子显微镜，包括：

生成第一强度和/或第一方向的第一磁场，以调整穿过所述扫描电子显微镜的第一生成组件的所述扫描电子显微镜的发射组件发射的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第一聚焦组件的磁轴重合；

生成第二强度和/或第二方向的第二磁场，以调整穿过所述扫描电子显微镜的第二生成组件的来自所述第一生成组件的电子束的偏转角度和/或位移，使得电子束的光轴与所述扫描电子显微镜的第二聚焦组件的磁轴重合。