[发明专利]球面近场测量方法和系统在审
| 申请号： | 202310305063.7 | 申请日： | 2023-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN116136554A | 公开（公告）日： | 2023-05-19 |
| 发明（设计）人： | 漆一宏;于伟;蔡张华;吴济宇 | 申请（专利权）人： | 深圳市通用测试系统有限公司 |
| 主分类号： | G01R29/10 | 分类号： | G01R29/10;G01R29/08 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 安卫静 |
| 地址： | 518100 广东省深圳市宝安区航*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 球面 近场 测量方法 系统 | ||
1.一种球面近场测量方法，其特征在于，包括：
对被测天线进行第一采样，并对得到的第一采样数据进行第一插值处理，以及对第一插值处理后的采样数据进行计算，得到所述被测天线的第一远场辐射方向图，其中，所述第一采样中，φ面的采样间隔为第一采样间隔，θ面的采样间隔为根据所述被测天线的频率和尺寸确定的，且所述第一采样间隔大于所述θ面的采样间隔；
对所述被测天线进行第二采样，并对得到的第二采样数据和所述第一采样数据进行第二插值处理，以及对第二插值处理后的采样数据进行计算，得到所述被测天线的第二远场辐射方向图，其中，所述第二采样为对上一采样的φ面加密补充采样；
判断相邻两次的远场辐射方向图是否满足预设的测量精度；
若满足，则将所述第一采样间隔或对φ面加密补充采样后对应的采样间隔作为φ面的目标采样间隔，且所述第一远场辐射方向图或所述第二远场辐射方向图作为所述被测天线的天线方向图；
若不满足，则将所述第二采样数据和所述第一采样数据作为所述第一采样数据，返回对所述被测天线进行第二采样的步骤，直至相邻两次的远场辐射方向图满足所述预设的测量精度为止，并将所述相邻两次的远场辐射方向图对应的采样间隔中的任一采样间隔作为φ面的目标采样间隔，所述相邻两次的远场辐射方向图中的任一远场辐射方向图作为所述被测天线的天线方向图。
2.根据权利要求1所述的球面近场测量方法，其特征在于，在对被测天线进行第一采样之前，所述方法还包括：
对所述被测天线按照所述球面近场测量方法进行仿真测量，并将仿真测量得到的φ面的目标采样间隔作为所述第一采样间隔。
3.根据权利要求1所述的球面近场测量方法，其特征在于，在对被测天线进行第一采样之前，所述方法还包括：
获取波束宽度与采样间隔之间的对应关系，其中，所述对应关系为对各不同波束宽度的被测天线按照所述球面近场测量方法进行仿真测量后得到的；
获取所述被测天线的波束宽度；
根据所述被测天线的波束宽度和所述对应关系，确定与所述被测天线的波束宽度对应的采样间隔；
将与所述被测天线的波束宽度对应的采样间隔作为所述第一采样间隔。
4.根据权利要求1所述的球面近场测量方法，其特征在于，返回对所述被测天线进行第二采样的步骤，包括：
确定不满足所述预设的测量精度的目标φ角度范围；
在所述目标φ角度范围对所述被测天线进行第二采样。
5.根据权利要求1所述的球面近场测量方法，其特征在于，所述第一采样和所述第二采样的区域位于所述被测天线的局部球面区域，在得到所述φ面的目标采样间隔后，所述方法还包括：
将所述φ面的目标采样间隔作为所述第一采样间隔，返回执行对被测天线进行第一采样的步骤。
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