[发明专利]自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法

说明书

本发明属于金属表面处理领域，具体公开一种自洁式纯铜件清洗槽，包括用于盛放酸溶液的浸酸箱，所述浸酸箱上可拆卸连接有自洁装置，所述自洁装置包括用于快速置换铜并在酸溶液下保持相对稳定的还原板和用于安装固定还原板的固定组件，通过还原板的铅将铜离子还原成金属铜，金属铜在稀硫酸中能够稳定存在，铅还原完铜离子后转化成硫酸铅，硫酸铅在稀硫酸中稳定存在，所以，这一处理方式不会对溶液成分造成任何影响，且无需停产处理；而自洁装置的多层式结构，通过栅板、进液孔、网袋等部件可以提高还原效率，防止铜的堆积；且还原板制造成本较低，还原板通过活化装置可以反复活化，延长使用寿命。

技术领域

本发明属于金属表面处理领域，具体的说涉及一种自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法。

背景技术

纯铜件在空气环境中放置过久表面容易生成氧化铜和碱式碳酸铜等物质，用稀硫酸水溶液处理不会腐蚀纯铜件基体，且能达到很好除掉腐蚀产物的效果，但是腐蚀产物溶解在稀硫酸水溶液中会使溶液中铜离子浓度逐渐升高，在同离子效应的作用下，腐蚀产物的溶解速率将会降低，同时随着铜离子累计到一定程度时，会以硫酸铜晶体形式沉积在清洗槽底部或四周，此时需要对清洗液进行化学沉降或者电解的方式去除铜离子。化学沉降会引入新的离子，破坏清洗液成分，电解处理需要停产，影响生产效率。

发明内容

针对现有技术的清洗铜件时铜离子大量积累，稀硫酸水溶液中铜离子浓度趋高的问题，现提出一种自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法。本发明提供如下技术方案：

一种自洁式纯铜件清洗槽，包括用于盛放酸溶液的浸酸箱，所述浸酸箱上可拆卸连接有自洁装置，所述自洁装置包括用于快速置换铜并在酸溶液下保持相对稳定的还原板和用于安装固定还原板的固定组件；所述固定组件包括筐篮和网袋，所述筐篮侧壁上设有若干个进液孔，所述还原板置于筐篮中，所述网袋包裹在筐篮外。

优选地，所述还原板通过基材板活化而成，基材板包括栅板和铅膏，所述铅膏附着于栅板上。

优选地，所述栅板上端两侧分别固定连接有第一挂耳和第二挂耳，所述浸酸箱内壁上固定连接有挂板柱，所述第一挂耳和第二挂耳挂设于挂板柱上；所述栅板上端固定连接有横梁，所述横梁两侧固定连接有用于竖向定位的挂肩。

优选地，栅板材质为铅合金，铅重量百分比为90%-95%；所述铅膏由铅粉和稀硫酸水溶液调和后阴干而成；铅粉含有重量百分比为99%-99.5%的铅及铅的氧化物，以及重量百分比为0.5%-1%的导电碳纤维；铅的氧化物占铅及铅的氧化物总和的70%-90%，稀硫酸水溶液中硫酸的重量百分含量为5%-10%；铅膏超出栅板表面0.2-0.5mm。

优选地，还包括用于恢复还原板的活化装置，所述活化装置包括充电机和用于盛放活化液的活化箱，所述活化箱上安装有若干个用于挂置还原板的挂板条。

优选地，所述活化箱较宽的两侧壁对应设置有4组置条孔，挂板条设置有4个，挂板条插接于置条孔中；所述挂板条包括2个导电挂板条和2个绝缘挂板条，1个导电挂板条和1个绝缘挂板条为一组，间隔分设有2组。

优选地，第二挂耳长于第一挂耳设置，第二挂耳压触的挂板条的数量多于第一挂耳。

一种自洁式纯铜件清洗槽的操作方法，使用上述的自洁式纯铜件清洗槽，包括以下步骤：

S1、活化，包括以下步骤：

S11、调配活化液，并将其放入活化箱中；

S12、将导电挂板条卡入两端的置条孔中，两条绝缘挂板条分别置于内侧两个置条孔中；

S13、相邻的两个基材板同种挂耳朝向相反设置，其中一条挂板条上的还原板数量比另外一条挂板条上的还原板数量多1条；

S14、将基材板在活化液中浸泡；

S15、充电机正负极通过导电夹连接挂板条；

S16、充电后取出还原板；

S2、清洗，包括以下步骤：

S21、调配清洗液；