[发明专利]一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法

权利要求书

1.一种多阶梯周期光栅结构，其特征在于：包括周期性的多阶梯光栅结构，每个周期的多阶梯光栅结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构，四阶梯光栅结构均设于衬底基板上，四阶梯光栅结构按照单周期内从右到左的顺序，分别为第一阶梯光栅结构（1）、第二阶梯光栅结构（2）、第三阶梯光栅结构（3）、第四阶梯光栅结构（4）；

所述第一阶梯光栅结构（1）包括第一透射层（101）与第一金属反射层（102），所述第一金属反射层（102）涂覆于第一透射层（101）上；所述第一透射层（101）的材料折射率为1.4~1.9，所述第一金属反射层（102）的材料反射率为0.5~1.0；所述第一阶梯光栅结构（1）的周期为0.5μm~2μm；所述第一透射层（101）的厚度h_a与透射材料折射率n满足；所述第一金属反射层（102）的整体厚度为100nm~300nm，其中包括20~80nm的氧化物吸收层；所述氧化物吸收层反射率为0.1~0.3；λ为激光源波长；

所述第二阶梯光栅结构（2）包括第二透射层（201），所述第二透射层（201）与第一透射层（101）为紧贴或一体关系；所述第二透射层（201）与第一透射层（101）的材料相同，所述第二透射层（201）的厚度h_a与透射材料折射率n满足；所述第二阶梯光栅结构（2）的周期为0.5μm~2μm；

所述第三阶梯光栅结构（3）包括第三金属反射层（301），所述第三金属反射层（301）涂覆于衬底基板上，所述第三金属反射层（301）与第一金属反射层（102）的材料与厚度均相同，所述第三阶梯光栅结构（3）的周期为0.5μm~2μm；

所述第四阶梯光栅结构（4）为衬底基板，无透射层与金属反射层，所述第四阶梯光栅结构（4）的周期为0.5μm~2μm。

2.根据权利要求1所述的一种多阶梯周期光栅结构，其特征在于：所述第三阶梯光栅结构（3）与第一阶梯光栅结构（1）的周期和占空比均相同；所述第四阶梯光栅结构（4）与第二阶梯光栅结构（2）的占空比均相同。

3.根据权利要求1所述的一种多阶梯周期光栅结构，其特征在于：所述第一阶梯光栅结构（1）、第二阶梯光栅结构（2）、第三阶梯光栅结构（3）与第四阶梯光栅结构（4）的占空比均相同。

4.根据权利要求1所述的一种多阶梯周期光栅结构，其特征在于：所述第一透射层（101）与第二透射层（201）采用透光性良好的材料，光线透过率＞95%，所述第一金属反射层（102）与第三金属反射层（301）采用氧化铬与铬；且设定的激光源波长λ为850nm。