[发明专利]一种用于镱离子微波频标的光路整形装置

权利要求书

1.一种用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，该装置包括：激光器组、光学镜片组、滤光器和离子阱；

所述激光器组，用于发射多组设定波长的平行光；

所述光学镜片组，用于将多组设定波长的平行光进行加工整形处理，获取整形光束；所述加工整形处理包括扩束、调制、汇集、整形；

所述滤光器，用于消除所述整形光束中的杂散光，使得所述整形光束中的有用光进入所述离子阱，进而得到跃迁谱线。

2.根据权利要求1所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述激光器组包括第一激光器、第二激光器、第三激光器；

所述第一激光器为369nm激光器；

所述第二激光器为399nm激光器；

所述第三激光器为935nm激光器。

3.根据权利要求2所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述光学镜片组包括扩束镜组、半波片组和汇集单元；

所述扩束镜组，用于将多组设定波长的平行光进行扩束；

所述半波片组，用于对扩束后的部分平行光的偏振方向进行调制；

所述汇集单元，用于将未调制偏振方向的平行光与所述半波片组的出射光进行汇集，得到汇集光。

4.根据权利要求3所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述扩束镜组包括第一扩束镜、第二扩束镜、第三扩束镜；

所述第一扩束镜，用于将所述第一激光器发射的平行光进行扩束；

所述第二扩束镜，用于将所述第二激光器发射的平行光进行扩束；

所述第三扩束镜，用于将所述第三激光器发射的平行光进行扩束。

5.根据权利要求4所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述半波片组包括第一半波片、第二半波片；

所述第一半波片，用于调制所述第一扩束镜扩束后的平行光的偏振方向；

所述第二半波片，用于调制所述第二扩束镜扩束后的平行光的偏振方向。

6.根据权利要求5所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述汇集单元包括偏振分束器、二向色镜；

所述偏振分束器，用于汇集所述第一半波片、所述第二半波片的出射光，作为第一汇集光；

所述二向色镜，用于汇集所述第三扩束镜扩束后的平行光、所述第一汇集光，得到第二汇集光。

7.根据权利要求6所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述光学镜片组还包括整形镜；

所述整形镜，用于将所述第二汇集光进行整形，得到整形光束。

8.根据权利要求1所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述整形光束中的杂散光的消除包括遮挡。

9.根据权利要求1所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述滤光器由光阑组成；所述光阑为矩形光阑。

10.根据权利要求9所述的用于镱离子微波频标的光路整形装置，其特征在于，所述光阑置于所述离子阱的光窗处。