[发明专利]显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种显示装置制造用光掩模，其在透明基板上具有转印用图案，其特征在于，

所述转印用图案包括：

主图案，其由透光部构成；

辅助图案，其由配置于所述主图案的周边的相移部构成；以及

低透光部，其形成于除所述主图案和所述辅助图案以外的范围，

所述辅助图案附随于所述主图案而配置于所述主图案的周围，

在将所述转印用图案所包括的多个所述主图案之一设为第一主图案时，与所述第一主图案不同的第二主图案配置于接近所述第一主图案的位置，

附随所述第一主图案的辅助图案在面对所述第二主图案的一侧具有缺失，

所述相移部是在所述透明基板上形成有相移膜而成的，

所述相移膜的曝光用光所包括的代表波长的折射率为1.5～2.9。

2.根据权利要求1所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

在将所述主图案的直径设为W1时，所述转印用图案在被转印体上形成直径W2的孔图案作为所述主图案的转印图像，W1≥W2。

3.根据权利要求1所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

在将所述第一主图案和所述第二主图案的排列方向设为X方向时，所述第一主图案的X方向的尺寸小于所述第一主图案的与所述X方向垂直的Y方向的尺寸。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述转印用图案包括三个以上的所述主图案在X方向、在与所述X方向垂直的Y方向、或者在所述X方向以及所述Y方向规则排列的密集图案，对于构成所述密集图案的主图案的每一个而言，所述转印用图案具有至少在面对其他主图案一侧具备缺失的所述辅助图案。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述相移膜相对于所述曝光用光的所述代表波长的透射率T1为20％～80％，并且所述相移膜使所述曝光用光的相位偏移120～240度。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述低透光部是相对于所述曝光用光的光学浓度OD为2以上的遮光部。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述转印用图案是对形成于所述透明基板的主表面上的光学膜进行图案刻印而成的，所述透光部是通过使所述主表面露出而形成的。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

附随所述第二主图案的辅助图案在面对所述第一主图案侧具有缺失。

9.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

连结所述第一主图案的重心与所述第二主图案的重心的直线不横穿所述辅助图案。

10.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述主图案是孔图案。

11.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述相移膜的膜厚为

12.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述第一主图案与所述第二主图案的重心间距离为1.6μm以上。

13.根据权利要求1～3中任一项所述的显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述第一主图案与所述第二主图案的重心间距离为8.75μm以下。

14.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括：

准备权利要求1～13中任一项所述的光掩模的工序；和

使用曝光装置，对所述转印用图案进行曝光，在被转印体上形成孔图案的工序。