[发明专利]一种碳钢储罐内壁Cr2在审

专利信息
申请号: 202310392786.5 申请日: 2023-04-13
公开(公告)号: CN116479371A 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 甘蓓;林黛琴;胡志华;黄俊;唐丽君;钟永红;赵潭;马熙雅;冷磊;王凤 申请(专利权)人: 江西省检验检测认证总院工业产品检验检测院
主分类号: C23C12/00 分类号: C23C12/00
代理公司: 南昌大牛知识产权代理事务所(普通合伙) 36135 代理人: 郑剑文
地址: 330000 江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 碳钢储罐 内壁 cr base sub
【权利要求书】:

1.一种碳钢储罐内壁Cr2N耐蚀涂层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

步骤1:采用氩离子辐照源对钢进行辐照,辐照过程中靶室呈真空状态,温度为500℃~550℃,离子辐照剂量为5×1018~2×1019ions/cm2

步骤2:对碳钢储罐内壁进行双辉等离子渗Cr合金化处理,所述双辉等离子渗Cr合金化处理后形成Cr合金层;

步骤3:对钢储罐内壁的Cr合金层进行活性屏离子氮化处理,制得Cr2N涂层。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤1之前还包括对碳钢储罐内壁进行等离子轰击预处理。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述对碳钢储罐内壁进行双辉等离子渗Cr合金化处理后,碳钢储罐内壁Cr合金层厚度为40μm~60μm。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述碳钢所选用的为Q235碳钢。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤1中双辉等离子渗Cr合金化处理采用的是源极溅射,所选用的靶材为纯Cr筒,纯Cr筒壁厚为5mm。

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述Cr筒壁上进行Cr合金加工,加工出等距排列直径为3mm,孔距为5mm的通孔。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法的具体过程如下:

S1:将碳钢储罐装入双辉等离子表面处理炉中并与工件电极相连;

S2:将纯Cr筒置于碳钢储罐内部,并与储罐内壁保持20mm间距,将Cr筒与源极电极相连;

S3:抽真空至本底真空度为10-3Pa后,通入氩气;

S4:采用氩离子辐照源对钢进行辐照,辐照过程中靶室呈真空状态,温度为500℃~550℃,离子辐照剂量为5×1018~2×1019ions/cm2

S5:开启工件电极电源,对碳钢储罐内壁进行等离子轰击预处理,所述等离子轰击预处理所设置的工艺参数为:工件电极电压为650V,氩气气压为30Pa,处理温度为600℃,处理时间为1h;

S6:开启源极电极电源并调整工件电极电源,对碳钢储罐内壁进行双辉等离子渗Cr合金化处理,所述双辉等离子渗Cr合金化处理所设置的工艺参数为:源极电极电压为1100V-1200V,工件极电压为700V-800V,氩气气压为50Pa,源极与工件极间距为20mm,处理温度为900℃-1000℃,处理时间为3h-6h;

S7:通入氮气,调整源极电极和工件电极电源,对碳钢储罐内壁进行活性屏离子氮化处理,所述活性屏离子氮化处理所设置的工艺参数为:活性屏电压为700V-800V,工件极电压为500V-600V,氮气与氩气比例为2:1,氮氩混合气体气压为100Pa,源极与工件极间距为20mm,处理温度为750℃,处理时间为12h-18h。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述S5中源极电极电压为1200V,工件极电压为700V,处理温度为900℃,处理时间为6h。

9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述S6中活性屏电压为700V,工件极电压为600V,处理时间为18h。

10.一种碳钢储罐内壁Cr2N耐蚀涂层,其特征在于,由权利要求1-9任一项所述的制备方法制得。

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