[发明专利]一种碳钢储罐内壁Cr2 在审
申请号: | 202310392786.5 | 申请日: | 2023-04-13 |
公开(公告)号: | CN116479371A | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 甘蓓;林黛琴;胡志华;黄俊;唐丽君;钟永红;赵潭;马熙雅;冷磊;王凤 | 申请(专利权)人: | 江西省检验检测认证总院工业产品检验检测院 |
主分类号: | C23C12/00 | 分类号: | C23C12/00 |
代理公司: | 南昌大牛知识产权代理事务所(普通合伙) 36135 | 代理人: | 郑剑文 |
地址: | 330000 江西省南昌市南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碳钢储罐 内壁 cr base sub | ||
1.一种碳钢储罐内壁Cr2N耐蚀涂层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
步骤1:采用氩离子辐照源对钢进行辐照,辐照过程中靶室呈真空状态,温度为500℃~550℃,离子辐照剂量为5×1018~2×1019ions/cm2;
步骤2:对碳钢储罐内壁进行双辉等离子渗Cr合金化处理,所述双辉等离子渗Cr合金化处理后形成Cr合金层;
步骤3:对钢储罐内壁的Cr合金层进行活性屏离子氮化处理,制得Cr2N涂层。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤1之前还包括对碳钢储罐内壁进行等离子轰击预处理。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述对碳钢储罐内壁进行双辉等离子渗Cr合金化处理后,碳钢储罐内壁Cr合金层厚度为40μm~60μm。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述碳钢所选用的为Q235碳钢。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤1中双辉等离子渗Cr合金化处理采用的是源极溅射,所选用的靶材为纯Cr筒,纯Cr筒壁厚为5mm。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述Cr筒壁上进行Cr合金加工,加工出等距排列直径为3mm,孔距为5mm的通孔。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法的具体过程如下:
S1:将碳钢储罐装入双辉等离子表面处理炉中并与工件电极相连;
S2:将纯Cr筒置于碳钢储罐内部,并与储罐内壁保持20mm间距,将Cr筒与源极电极相连;
S3:抽真空至本底真空度为10-3Pa后,通入氩气;
S4:采用氩离子辐照源对钢进行辐照,辐照过程中靶室呈真空状态,温度为500℃~550℃,离子辐照剂量为5×1018~2×1019ions/cm2;
S5:开启工件电极电源,对碳钢储罐内壁进行等离子轰击预处理,所述等离子轰击预处理所设置的工艺参数为:工件电极电压为650V,氩气气压为30Pa,处理温度为600℃,处理时间为1h;
S6:开启源极电极电源并调整工件电极电源,对碳钢储罐内壁进行双辉等离子渗Cr合金化处理,所述双辉等离子渗Cr合金化处理所设置的工艺参数为:源极电极电压为1100V-1200V,工件极电压为700V-800V,氩气气压为50Pa,源极与工件极间距为20mm,处理温度为900℃-1000℃,处理时间为3h-6h;
S7:通入氮气,调整源极电极和工件电极电源,对碳钢储罐内壁进行活性屏离子氮化处理,所述活性屏离子氮化处理所设置的工艺参数为:活性屏电压为700V-800V,工件极电压为500V-600V,氮气与氩气比例为2:1,氮氩混合气体气压为100Pa,源极与工件极间距为20mm,处理温度为750℃,处理时间为12h-18h。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述S5中源极电极电压为1200V,工件极电压为700V,处理温度为900℃,处理时间为6h。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述S6中活性屏电压为700V,工件极电压为600V,处理时间为18h。
10.一种碳钢储罐内壁Cr2N耐蚀涂层,其特征在于,由权利要求1-9任一项所述的制备方法制得。
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