[发明专利]一种NSiV双色心的磁场与温度双参量测试方法及装置在审

专利信息
申请号: 202310401477.X 申请日: 2023-04-15
公开(公告)号: CN116500519A 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 沈涛;袁悦 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: G01R33/032 分类号: G01R33/032;G01K11/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 nsiv 色心 磁场 温度 参量 测试 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种NSiV双色心的磁场与温度双参量测试方法及装置,其特征在于:它包括光纤激光器(1)、磁场及温度测试装置(2)、光电转换模块(3)、ADC模块(4);微处理器(5)、计算机(6);所述方法的具体实现过程为:

所述光纤激光器(1)中心波长为532nm,强度为20mw用于产生光信号;

所述磁场及温度测试装置(2)包括旋转磁力座(2-1)、N级磁铁(2-2)、S级磁铁(2-3)、磁力座供电装置(2-4)、传感单元(2-5),温控平台(2-6)其中:

旋转磁力座(2-1)两端分别放置N级磁铁(2-2)与S级磁铁(2-3),通过磁力座供电装置(2-4)可调节N级磁铁(2-2)与S级磁铁(2-3)的磁力,另外传感单元(2-5)以及温控平台(2-6)放置在磁场测试装置平台上;

传感单元(2-5)为大芯多模光纤(2-5-1)与MNF(2-5-2)与大芯多模光纤(2-5-4)熔接构成马赫曾德结构,另外将金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)涂覆在MNF(2-5-2)的腰锥中心,最后将基于SPR的单模光纤(2-5-5)与马赫曾德结构级联;

传感单元(2-5)的具体制备过程包括马赫曾德结构以及基于SPR的单模光纤(2-5-5)的制作、金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)以及PDMS(2-5-5-1)的制作与涂覆,其中:

所述大芯多模光纤(2-5-1)长度为10cm,纤芯直径为105μm,MNF(2-5-2)为多模光纤拉锥,纤芯直径为35μm,长度为3cm,过渡区(2-5-2-1)长度为1.1cm,腰锥(2-5-2-2)长度为0.9cm,腰锥直径为20μm,所述基于SPR的单模光纤(2-5-5)的纤芯直径为8.2μm,剩余包层直径110μm,银膜厚度40nm,长度为10mm,首先,利用氢氧焰拉锥机在单模光纤中心部分进行拉锥,拉锥至长度为9mm,其次,MNF(2-5-2)一端与大芯多模光纤(2-5-1)利用熔接机进行熔接直至损耗为0,最后,利用熔接机将MNF(2-5-2)另一端与大芯多模光纤(2-5-4)进行熔接直至损耗为0构成马赫曾德结构,将单模光纤表面涂覆层去掉后将浓度为35%的HF滴涂在去掉涂覆层的部位直至包层(2-5-5-3)腐蚀到15μm后采用磁控溅射法将Ag(2-5-5-2)镀在被腐蚀的部位直至光纤结构镀膜均匀;

所述金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)的制作,首先选取石英玻璃片作为基底,使用MPCVD在N2环境下沉积3nm的金刚石,参数设置为:甲烷通量为2.5sccm,H2通量为232.4sccm,N2通量为1sccm,温度为900℃,功率为1200w,压强为4030pa,沉积50min,其次,沉积Si,参数设置为:功率为50w,压强为1pa,真空度为9E-4,沉积时间为70s,最后,进行退火生成双空位,关闭甲烷和氮气,参数设置为:H2通量提升至155sccm,温度设置为700℃,静置1.5小时后待降到室温取出金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3),取定量金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)粉末溶于30ml无水乙醇中,超声处理2小时使其均匀分散成为金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)悬浊液;

所述金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)涂覆在MNF(2-5-2)的腰锥中心采用滴涂法,首先,采用移液枪吸取所制金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)悬浊液,滴涂在MNF(2-5-2)的腰锥中心,干燥箱80℃干燥2h,待干燥箱降至室温后金刚石NSiV双色心纳米材料(2-5-3)均匀涂覆在MNF(2-5-2)的腰锥中心,PDMS的涂覆也采用滴涂法,同样采用移液枪吸取PDMS(2-5-5-1)滴涂在银膜外,干燥箱80℃,干燥2小时;

所述的一种NSiV双色心的磁场与温度双参量测试方法及装置,其特征还在于:

步骤一、对686.25nm-688.75nm范围内对传感波谷进行定位拟合处理:

686.25nm-688.75nm波段光纤光谱近似用高斯函数进行表示,高斯函数是公知类公式,但通过拟合与定位可以确定波谷位置,即

对686.25nm-688.75nm范围内波谷进行定位拟合,对高斯光谱两端取对数

令lnI(λ)=y1

可得到二项式拟合公式:

y1=a1λ2+b1λ2+c1λ       (3)

将686.25nm-688.75nm范围内各点处波长带入即可得到对中心波谷进行定位;

步骤二、对688.75nm-691.25nm范围内对传感波峰进行定位拟合处理:

688.75nm-691.25nm波段光纤光谱近似用高斯函数进行表示,高斯函数是公知类公式,但通过拟合与定位可以确定波谷位置,即

对686.25nm-688.75nm范围内波峰进行定位拟合,对高斯光谱两端取对数

令lnI(λ)=y2

可得到二项式拟合公式:

y2=a2λ2+b2λ2+c2λ         (7)

将688.75nm-691.25nm范围内各点处波长带入即可得到对中心波峰进行定位;

式中I(λ)表示不同波长所对应的光强,λdip1表示686.25nm-688.75nm波段内波谷所对应的波长值,λpeak2表示688.75nm-691.25nm波段内波峰所对应的波长值,Δλ表示波长变化量,A表示常数,将采集到的波长数据带入到公式(4)与(8)中可得到两个波段波谷及波峰所对应的中心波长值,公式(3)与(7)为二次多项式拟合形式,因此采取最小二乘法对数据进行拟合;

步骤三、同时改变磁场与温度,对不同磁场与温度所对应的波长进行扫描,当磁场强度增大时,686.25nm-688.75nm波段传感波谷向短波长方向漂移,温度增大时,688.75nm-691.25nm波段传感波峰向高强度方向漂移,微处理器对变化的波长进行采集;

步骤四、对采集到的漂移波长组进行取点,Idip1与λpeak2表示波谷处所对应的光谱强度值,686.25nm-688.75nm波段以Idip1±0.1n(n=0、1、2)为中心水平取5个交点进行标记,688.75nm-691.25nm波段以λpeak2±0.125n(0、1、2)为中心取点,共取5组,记为L1、L2、L3、L4、L5,由于各点处波长拟合存在误差,同时光谱各处会产生形变,因此采取平均波长及强度漂移定义传感器对磁场和温度变化的响应

步骤五、定义平均波长与强度漂移及解调矩阵如下:

式中λ1、λ2、λ3、λ4、λ5分别为磁场变化所对应的686.25nm-688.75nm波段波谷所在的L1、L2、L3、L4、L5这5组处的波长,I1、I2、I3、I4、I5分别为688.75nm-691.25nm波段波峰所在的L1、L2、L3、L4、L5这5组处的强度值,代表五组的平均波长漂移量,代表五组平均强度漂移量,表示磁场变化量,ΔT表示温度变化量,S(H,dip1)磁场变化引起的处的灵敏度,S(T,dip1)表示温度变化时dip1处的灵敏度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨理工大学,未经哈尔滨理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310401477.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top