[发明专利]一种孔垂直度测量装置及测量方法在审
申请号: | 202310431459.6 | 申请日: | 2023-04-21 |
公开(公告)号: | CN116295125A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 韩利亚;喻龙;缑建杰;文洲 | 申请(专利权)人: | 成都飞机工业(集团)有限责任公司 |
主分类号: | G01B11/26 | 分类号: | G01B11/26;G01B11/00 |
代理公司: | 成都君合集专利代理事务所(普通合伙) 51228 | 代理人: | 张鸣洁 |
地址: | 610092 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 垂直 测量 装置 测量方法 | ||
1.一种孔垂直度测量装置,其特征在于,包括:
测量单元(1),所述测量单元(1)包括一端开口另一端封闭的筒体(101),所述筒体(101)封闭一端的内壁上设置有图像获取单元(103),所述筒体(101)内设置有小孔板(102),所述小孔板(102)与所述筒体(101)封闭一端端面相互平行,所述小孔板(102)上对应筒体(101)轴线位置处开设有小孔,所述小孔板(102)上朝向所述筒体(101)开口一侧设置有光源(104);
检测基准件(2),所述检测基准件(2)包括配合部(201)和基准部(202),所述配合部(201)可配合插设到待测孔内,所述基准部(202)端面上设置有至少三个标记点,且标记点之间的间距不相等,所述基准部(202)端面与配合部(201)轴线相互垂直。
2.根据权利要求1所述的孔垂直度测量装置,其特征在于,所述筒体(101)的开口一端设置有若干个接触脚,所述接触脚的下端所在的平面与图像获取单元(103)所处平面相互平行。
3.根据权利要求2所述的孔垂直度测量装置,其特征在于,所述图像获取单元(103)的对角线长度与图像获取单元(103)与小孔板(102)之间的距离比值小于筒体(101)内径与接触脚下端所在平面与小孔板(102)之间的距离比值。
4.根据权利要求1所述的孔垂直度测量装置,其特征在于,所述图像获取单元(103)选用CMOS图像传感器。
5.根据权利要求1所述的孔垂直度测量装置,其特征在于,所述光源(104)包括若干个沿圆周方向均布设置的大功率LED。
6.一种孔垂直度测量方法,其特征在于,采用权利要求1-5任意一项所述的孔垂直度测量装置,包括如下步骤:
S01:获取待测孔的直径;
S02:选取与待测孔直径相互匹配的检测基准件(2)配合插入到待测孔中;
S03:通过图像获取单元(103)获取所述基准部(202)端面上标记点的二维图像,计算三个标记点在图像获取单元(103)的坐标系下的空间坐标,获取三个标记点所在平面的参数;
S04:根据三个标记点所在平面的参数得到待测孔的垂直度。
7.根据权利要求6所述的孔垂直度测量方法,其特征在于,步骤S01中,获取待测孔的直径包括以下步骤:
S11:将所述筒体(101)罩于待测孔上,使待测孔的中心位于筒体(101)中轴线上;
S12:利用所述小孔板(102)上设置的光源(104)进行高强度曝光,拍摄待测孔的二维图像;
S13;提取图像上的圆特征,计算其像素直径,基于小孔成像模型和测量单元(1)的几何尺寸换算为孔径。
8.根据权利要求6所述的孔垂直度测量方法,其特征在于,步骤S03中获取三个标记点所在平面度的参数包括以下步骤:
S31:将所述筒体(101)罩于待测孔和检测基准件(2)上,使待测孔的中心位于所述筒体(101)中心轴线上;
S32:利用所述小孔板(102)上设置的光源(104)进行高强度曝光,拍摄所述基准部(202)的二维图像;
S33:提取所述基准部(202)图像上的标记点特征,计算各标记点的中心坐标;
S34:根据标记点之间的物理距离、标记点成像的像素距离和小孔成像模型,以图像获取单元(103)所在的平面为基准建立图像获取单元(103)坐标系,计算各标记点在图像获取单元(103)坐标系的空间坐标,根据各标记点的空间坐标得到其所在平面的参数。
9.根据权利要求6所述的孔垂直度测量方法,其特征在于,步骤S04中,根据获取的各标记点所在平面的参数,计算平面法线与图像获取单元(103)所在平面法线之间的夹角,得到待测孔的垂直度。
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