[发明专利]一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法

权利要求书

1.一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于，包括以下具体步骤：

S1、制取数字化印模，工作人员使用口内扫描仪进行制取IOS模型，在患者残留牙列两端及近缺损区相对平整的腭部黏膜区域粘贴氧化锆瓷块，进行扫描，在软件中手动修剪形态后，保存数字化模型并以STL文件格式输出；

S2、进行常规印模，对于每个参与者，在进行IOS后，通过材料制取常规上颌模型，检查所取印模，检查瓷块与硅橡胶阴模是否紧密贴合，使用高分辨率模型扫描仪扫描石膏模型，获取STL数据作为患者口腔印模的标准数据；

S3、数据匹配与测量分析，将患者通过IOS所得到的STL数据和模型扫描仪获取的CI组STL数据导入逆向工程软件，用于匹配及数据测量，对每一组模型执行两种不同的测量操作：瓷块与牙之间的线性距离测量以及针对牙齿区域的最佳拟合算法测量，生成直观的颜色偏差图，并提供中位数、平均正偏差、平均负偏差等一系列数据信息；

S4、统计分析数据，使用统计软件进行分析。

2.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S1中在进行扫描前，还需要进行以下操作：

S101、采用纱布覆盖保护颌骨缺损区基底鼻咽部粘膜；

S102、通过吸唾器及棉卷尽可能去除扫描区域口腔部粘膜及牙齿上的唾液；

S103、使用医用胶水进行粘贴氧化锆瓷块。

3.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S1中的氧化锆瓷块的规格为6mm*6mm*3mm，瓷块边缘误差±0.1mm，所述氧化锆瓷块的数量为3块，将残留牙列前牙端瓷块记为A瓷块，后牙端瓷块记为C瓷块，近缺损区或皮瓣区瓷块记为B瓷块。

4.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S2中的材料为光固化模型材料预先制作的个性化印模托盘和乙烯基聚硅氧烷加聚型弹性印模轻体材料。

5.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S2中在进行扫描石膏模型前，还需要将所有印模在室温下保存8小时，才可以取出印模中的瓷块，进行灌注石膏模型。

6.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S3中的线性距离测量具体方法为：

S301、根据CI石膏模型及IOS模型中的距离差值评估IOS的真实性；

S302、瓷块中心点P与牙面标志点T分别代表软组织及硬组织，测量距离定义为各瓷块中心点P与余留牙标志点T之间的距离，CI组及IOS组距离分别表示为DPnTn及Dpntn；

S303、在获取各标志点坐标前，每一组模型通过最佳拟合配准的方式对齐到同一公共坐标框架内，牙面标志点T为模型拟合后选取的前牙切角对应点或后牙牙尖点，瓷块中心点坐标P需将瓷块单独选取后，通过软件获取。

7.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S3中在完成两种不同的测量操作后还需要在软件中对模型沿牙齿颈缘线进行修剪，获取独立的牙列数据，将修剪后的每一组数据在软件中通过最佳拟合算法进行3D分析，算法会自动在三维方向上将测试模型与参考模型对齐。

8.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S4中使用统计软件进行分析时包括以下具体步骤：

S401、采用Shapiro-Wilk检验确定数据是否符合正态分布；

S402、采用Levene检验确定方差齐性，配对t检验对组间距离偏差进行分析；

S403、组内距离偏差分析通过ANOVA进行对牙列3D最佳拟合数据的分析采用Wilcoxon检验。

9.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S1中进行扫描时需要通过从上颌骨缺损区对侧最后缘牙齿咬合面开始扫描，以“之”字形对牙列进行颊腭侧缓慢扫描。

10.根据权利要求1所述的一种颌骨缺损患者口内印模制取的方法，其特征在于：所述步骤S2中检查瓷块与硅橡胶阴模是否紧密贴合时，当发现瓷块在取模过程中松动、脱落或异位，则该病例不纳入本研究，当发现无异常，则进行后续操作。