[发明专利]高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法

权利要求书

1.高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤(1)、对含铀的硅微粉进行预处理：取普通硅微粉，取出后放入无尘粉碎机中进行无尘超细粉碎，粉碎后放入分级筛分机内进行精选，制得超细硅微粉；

步骤(2)、浆料的制备：取步骤(1)中制得的所述超细硅微粉，往所述超细硅微粉中加入去离子水，并放入磁力搅拌机中混合搅拌，搅拌后添加酸性试剂调节混合液的PH值到适宜范围，制得浆料；

步骤(3)、介孔吸附装置的制备：取一个蜂窝陶瓷和块状二氧化硅基气凝胶，将所述二氧化硅基气凝胶均匀地粘附于所述蜂窝陶瓷的孔道壁上，涂抹均匀后放入烘箱内进行高温烘烤，待胶黏剂干燥后，往所述蜂窝陶瓷的孔道内通入无尘氮气，将未完全粘附的所述二氧化硅基气凝胶吹干净后，获得介孔吸附装置；

步骤(4)、吸附和提纯处理：使用循环水泵抽取步骤(2)获得的所述浆料，将抽取的所述浆料通过步骤(3)获得的介孔吸附装置，对步骤(2)获得的所述浆料中的铀元素进行吸附分离处理，重复吸附提纯过程2～3次后，制得低辐射球形硅微粉。

2.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(1)中进行无尘粉碎及分级筛分的目的是使原本在所述普通硅微粉颗粒内部的铀元素暴露于表面，以制得超细硅微粉。

3.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述无尘粉碎机的转速为400～450r/min，粉碎处理的时间为10～15min，筛分的级数为四级，粉末过50目筛。

4.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述超细硅微粉与所述去离子水的质量比为2:1。

5.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述磁力搅拌机的转速为350～450r/min，磁力搅拌的时间为35min。

6.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所添加的所述酸性试剂为20％的乙酸，并将PH调节至4.5以下。

7.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述的块状二氧化硅基气凝胶的比表面积为400～600㎡/g。

8.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述烘箱的温度为60℃，烘烤的时间为4h。

9.根据权利要求1所述的高端填料用低辐射球形硅微粉的制备方法，其特征在于，步骤(4)中对所述浆料中的铀元素进行循环吸附分离处理的时间为2h，每次提纯后所述介孔吸附装置需要更换，不能重复使用。