[发明专利]一种电离辐射处理污水的装置及方法

权利要求书

1.一种污水处理装置，其特征在于，包括：

容器，用于承载污水；

喷射部件，位于所述容器的侧壁上，用于使待处理污水呈抛物面喷射入所述容器中；

电子束辐照部件，用于产生电子束，并且所述电子束照射于所述待处理污水的抛物面上；以及，

催化剂承载部件，用于承载催化剂；所述催化剂承载部件位于所述容器的中部和/或底部，以使得催化剂与所述抛物面接触和/或与容器底部的污水接触。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述电子束辐照部件包括两个或多个出束口，使得所述电子束辐照部件发出两个或多个不同方向的电子束。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述电子束辐照部件至少发出一对相对方向的第一电子束和第二电子束，其中所述第一电子束自上而下照向所述容器的底面，所述第二电子束自下而上照向所述容器的顶面，所述第一电子束和所述第二电子束的出束口分别位于所述抛物面的两侧。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述喷嘴的出水口的长度为50cm-200cm，宽度为0.5cm-5cm，且长宽比为(25-400):1。

5.一种污水处理的方法，其特征在于，在权利要求1-4任意一项所述的装置中进行，所述方法包括：

待处理污水经过喷射部件呈抛物面状喷出，经过电子束辐照部件发出的电子束的辐照后落入容器中；所述待处理污水在被电子束辐照的同时与催化剂承载部件上的催化剂接触，和/或所述待处理污水在容器底部与催化剂承载部件上的催化剂接触。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述电子束的能量为0.5MeV-10.0MeV，束流强度为1mA-300mA，贯穿水膜厚度为0.5cm-5cm。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一电子束和第二电子束的能量差别为50％以内，所述第一电子束和第二电子束的束流强度差别为50％以内。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述抛物面的水膜厚度符合h＝9×10^-9E-0.005；其中，E为平均能量，单位eV；h为污水束下反应器需要设计水膜厚度，单位m。

9.根据权利要求5所述的方法，其中，所述污水流速符合v＝IE/(2000xelh)；其中，I为电子束的平均束流强度，单位A；l为待处理污水的抛物面的水膜宽度，单位m；v为污水流速，单位m/s；x为待处理污水达到排放标准需要的吸收剂量，单位为Gy；E为平均能量，单位eV；e为电子电量。

10.根据权利要求5所述的方法，其中，所述污水为含有高分子有机化合物的污水。