[发明专利]一种晶圆离心式清洗工艺及其清洗设备

权利要求书

1.一种晶圆离心式清洗工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1、先移动喷淋手臂至晶圆中心点停止，之后控制晶圆旋转，通过喷嘴一喷出臭氧水，预定时间后喷嘴一、喷嘴二交替喷出臭氧水；

S2、待S1中臭氧水喷淋完毕后，继续控制晶圆旋转，通过喷嘴三喷出酸性药液；

S3、待S2中酸洗药液喷淋完毕后，通过喷嘴四喷出中性药液；

S4、重复S1-S3步骤2-4次；

S5、继续控制晶圆旋转，再次通过喷嘴一喷出臭氧水，预定时间后喷嘴一、喷嘴二交替喷出臭氧水；

S6、 待臭氧水喷淋完毕后，继续控制晶圆旋转，同时喷嘴五喷出干燥气体，使晶圆表面完成干燥。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆离心式清洗工艺，其特征在于，步骤S1以及步骤S5中臭氧水的浓度大于15mg/L。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆离心式清洗工艺，其特征在于，其中酸洗药液由酸洗溶液和纯化水混合而成，其中酸洗溶液体积分数小于5%。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆离心式清洗工艺，其特征在于，步骤S1以及步骤S5中控制晶圆安装第一速度转动，步骤S3中控制晶圆安装第二速度转动，步骤S2中控制晶圆安装第三速度转动，其中第一速度大于第二速度，第二速度大于第三速度。

5.一种晶圆离心式清洗设备，其特征在于，包括：

底座（100），上端设置有清洗槽（110）；

驱动装置（200），设置于清洗槽（110）内，用于控制晶圆（800）定向转动；

喷淋手臂（300），设置于清洗槽（110）内，且位于驱动装置（200）一侧，具有安装摆臂（330），所述安装摆臂（330）位于驱动装置（200）上方；

喷淋组件（400），设置于安装摆臂（330）下端，用于喷出液体对晶圆（800）进行清洗，包括依次设置的喷嘴二（410）、喷嘴三（420）、喷嘴一（430）以及喷嘴四（440）；其中喷嘴一（430）以及喷嘴二（410）之间具有预定间距；

干燥组件（700），用于向晶圆（800）表面喷出干燥气体；

保护装置（500），安装于喷淋组件（400）下端，形成与喷嘴数量相对应的保护腔室，用于在喷淋的过程中使不同作用的喷嘴相互隔绝。

6.根据权利要求5所述的一种晶圆离心式清洗设备，其特征在于，所述安装摆臂（330）表面设置有位控装置（600），其中通过位控装置（600）控制喷嘴二（410）沿着安装摆臂（330）线性移动处于不同的位置。

7.根据权利要求5所述的一种晶圆离心式清洗设备，其特征在于，所述保护装置（500）包括与喷嘴二（410）位置相对应的第一保护组件（510）、与喷嘴三（420）位置相对应的第二保护组件（520）、与喷嘴一（430）位置相对应的第三保护组件（530）以及与喷嘴四（440）位置相对应的第四保护组件（540），所述保护装置（500）还包括导轨（550）以及控制装置，多个所述保护组件与导轨（550）相配合，且可沿着垂直于安装摆臂（330）方向线性移动。

8.根据权利要求7所述的一种晶圆离心式清洗设备，其特征在于，所述第一保护组件（510）包括保护壳一（511）以及导通开口一（512），所述第三保护组件（530）包括保护壳三（531）以及导通开口三（532），所述保护壳一（511）以及保护壳三（531）之间通过连接工件一固定连接，所述第一保护组件（510）内部设置有控制组件一（513）用于控制第一保护组件（510）以及第三保护组件（530）线性移动，其中导通开口一（512）以及导通开口三（532）位于安装摆臂（330）的同一侧。